特許

J-GLOBAL ID：202003002333999958

ナノエンボス構造体、ナノエンボス構造体の製造方法、ナノエンボス構造体製造用の重合性材料

発明者： 須崎 吾郎 ,  鳥山 重隆 ,  宍戸 厚 ,  久野 恭平
出願人/特許権者： JXTGエネルギー株式会社 ,  国立大学法人東京工業大学
代理人 (1件)： 特許業務法人セントクレスト国際特許事務所
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2016-169454
公開番号（公開出願番号）：特開2018-036496
特許番号：特許第6725129号
出願日： 2016年08月31日
公開日（公表日）： 2018年03月08日
請求項（抜粋）：

【請求項1】 4〜8官能のアクリル系モノマーから選択される少なくとも1種の多官能アクリル系モノマー(A)、及び、炭素-炭素二重結合を有する官能基の数が1〜3のモノマーから選択される少なくとも1種のモノマー(B)のうちの少なくとも1種を含有し、かつ、前記多官能アクリル系モノマー(A)の含有量が前記多官能アクリル系モノマー(A)及び前記モノマー(B)の総量に対して70モル%以上である重合性材料を調製する工程、前記重合性材料からなる膜を形成する工程、及び、酸素を15容量%以上含有する酸素含有雰囲気下において前記膜に光を照射して光重合することにより、該膜の酸素と接する表面にナノエンボス構造を自己組織的に形成する工程を有することを特徴とするナノエンボス構造体の製造方法。

IPC (5件)：

G02B 1/118 ( 201 5.01) ,  C08F 2/46 ( 200 6.01) ,  C08F 220/28 ( 200 6.01) ,  G02B 5/30 ( 200 6.01) ,  C08J 5/18 ( 200 6.01)

FI (5件)：

G02B 1/118 ,  C08F 2/46 ,  C08F 220/28 ,  G02B 5/30 ,  C08J 5/18 CEY

引用特許：

審査官引用 (1件)

• 積層体ならびに反射防止物品および撥水性物品
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2011-085526   出願人：三菱レイヨン株式会社