特許

J-GLOBAL ID：202003002407095088

二座ホスフィン配位子を有するロジウム錯体及びその製造方法、並びに二座ホスフィン配位子を有するロジウム錯体を用いるハロゲン化アリルのヒドロシリル化

発明者： 猪股 航也 ,  永縄 友規 ,  佐藤 一彦 ,  中島 裕美子
出願人/特許権者： 国立研究開発法人産業技術総合研究所
代理人 (1件)： 特許業務法人秀和特許事務所
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2019-009700
公開番号（公開出願番号）：特開2020-117459
出願日： 2019年01月23日
公開日（公表日）： 2020年08月06日
要約：

【課題】3-ハロプロピルシランの製造における触媒として使用可能な錯体およびその製造方法を提供し、3-ハロプロピルシランを効率良く製造する方法を提供する。【解決手段】次式で得られる特定のロジウム錯体などを触媒として使用する。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

式(C-1)〜(C-3)の何れかで表されるロジウム錯体。

IPC (2件)：

C07F 9/50 ,  C07F 7/12

FI (2件)：

C07F9/50 ,  C07F7/12 K

Fターム (24件)：

4H039CA92 ,  4H039CF10 ,  4H049VN01 ,  4H049VP01 ,  4H049VQ02 ,  4H049VQ12 ,  4H049VR21 ,  4H049VR33 ,  4H049VS12 ,  4H049VS95 ,  4H049VU36 ,  4H049VW02 ,  4H050AA01 ,  4H050AA02 ,  4H050AB40 ,  4H050BB15 ,  4H050BB61 ,  4H050BC10 ,  4H050BC19 ,  4H050WA01 ,  4H050WA29 ,  4H050WB16 ,  4H050WB17 ,  4H050WB22

引用特許：

審査官引用 (5件)

• 特許第6011798号
  
• 3-キヌクリジノンエノールエステルおよびそれを使用した光学活性3-キヌクリジノールエステルの製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2002-234650   出願人：川研ファインケミカル株式会社
• 新規ジホスフィン化合物、その製造方法及びそれを含む金属錯体
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2009-017385   出願人：国立大学法人岡山大学
• 中性ロジウム-ホスフィン錯体の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2004-101057   出願人：高砂香料工業株式会社
• 特許第6967775号
  

引用文献：

審査官引用 (5件)

• Oxidative addition of CH2Cl2 to neutral dimeric rhodium diphosphine complexes
• In Situ Synthesis of Neutral Dinuclear Rhodium Diphosphine Complexes [{Rh(diphosphine)(μ2-X)}2]: Sy
• Synthesis and NMR spectra of derivatives of the polykis(diphenylphosphino)benzenes, (Ph2P)nC6H6-n [n
• Rhodium-catalyzed alkene hydrosilylation via a hydride shuttle process by diene ligands: dramatic en
• Mechanistic insights into the iridium-catalyzed hydrosilylation of allyl compounds