特許
J-GLOBAL ID：202003002452149865
ガス製造システム及びガス製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (4件)：
大岩 増雄
, 竹中 岑生
, 村上 啓吾
, 吉澤 憲治
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2019-551416
特許番号：特許第6621573号
出願日： 2019年04月23日
要約：
【要約】 ガス製造システムは、被処理ガス(8)の流路(9)を形成する反応器(2)、電圧が印加される第一の電極(3)及び第二の電極(4)、及び流路(9)に配置され触媒を含む触媒層(5)を有するガス製造装置と、第一の電極(3)及び第二の電極(4)に印加する電圧を発生させる電圧発生手段(12)と、被処理ガス(8)をガス製造装置に供給するガス供給手段と、を備え、電圧発生手段(12)は、被処理ガス(8)に応じて電圧の周波数を設定する周波数設定手段(13)を有し、第一の電極(3)と第二の電極(4)との間に発生したプラズマを触媒層(5)に照射し、被処理ガス(8)を改質して生成ガス(11)を得る。
請求項（抜粋）：
【請求項1】 触媒にプラズマを照射して被処理ガスを改質し生成ガスを製造するガス製造システムにおいて、
電圧を発生させる電圧発生手段と、
前記電圧発生手段により発生させた電圧を用いて前記触媒に照射するプラズマを発生させるプラズマ発生手段と、
前記被処理ガスに応じて前記電圧の周波数を設定する周波数設定手段と、を備え、
前記被処理ガスは、炭化水素系のガス及び酸化剤ガスであり、前記生成ガスは、水素含有ガスである、ガス製造システム。
IPC (1件)：
FI (1件)：
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