文献

J-GLOBAL ID：202102292104837221   整理番号：21A0696812

He/O₂混合ガス中で生成したOラジカルのレジストとの反応性評価

Evaluation of Reactivity between Photoresist and Oxygen Radicals Generated in He/O₂ Mixtures

著者 (7件)： 山本雅史 (香川高専) ,  秋田航希 (香川高専) ,  長岡史郎 (香川高専) ,  大平圭介 (北陸先端科学技術大学院大) ,  梅本宏信 (静大) ,  梅本宏信 (大阪市大) ,  堀邊英夫 (大阪市大)
資料名： 応用物理学会秋季学術講演会講演予稿集(CD-ROM)  (Extended Abstracts. JSAP Autumn Meeting (CD-ROM))
巻： 81st  ページ： ROMBUNNO.9p-Z25-5  発行年： 2020年08月26日 
JST資料番号： Y0055B  ISSN： 2758-4704  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

本文一部表示： 【緒言】フォトリソグラフィーにおけるレジストの除去では有害な薬品が大量に使用されるため、環境負荷が懸念されている。この解決策として、これまで我々は水素(H)ラジカルを使用してレジストを除去する方法を検討してきたが、除去速度が遅いことが問題で...【本文一部表示】

シソーラス用語： 干渉 ,  *混合気体 ,  相互作用 ,  熱電対 ,  薄膜 ,  *ラジカル ,  流量 ,  *ヘリウム ,  ステンレス鋼 ,  オゾン ,  混合比 ,  ヒドロキシルラジカル ,  *レジスト ,  表面温度 ,  フォトリソグラフィー

分類 (1件)： プラズマ応用  (BJ02110K)

タイトルに関連する用語 (7件)： He ,  O2 ,  混合ガス ,  ラジカル ,  レジスト ,  反応性 ,  評価