特許

J-GLOBAL ID：202103006190657727

ガス製造システム及びガス製造方法

発明者： 明田川 恭平 ,  平敷 勇 ,  野崎 智洋 ,  坂田 謙太
出願人/特許権者： 三菱電機株式会社 ,  国立大学法人東京工業大学
代理人 (4件)： 大岩 増雄 ,  竹中 岑生 ,  村上 啓吾 ,  吉澤 憲治
公報種別：再公表公報
出願番号（国際出願番号）：JP2019017117
公開番号（公開出願番号）：WO2020-217290
出願日： 2019年04月23日
公開日（公表日）： 2020年10月29日
要約：

反応器(2)内の触媒にプラズマを照射して供給された原料ガス(8)および酸化剤ガス(10)を改質して生成ガス(14)を製造するガス製造システムにおいて、原料ガス供給手段(9)が反応器(2)に供給する原料ガス(8)と、酸化ガス供給手段(11)が反応器(2)に供給する酸化ガス(10)との比率を変化させるガス比率変化手段(101)と触媒に照射するプラズマを発生させるプラズマ発生手段とを備え、触媒表面において反応性の高い化学種の形成を効率的に促進させることにより、生成ガス(14)の収率、およびエネルギー効率を向上させる。

請求項（抜粋）：

反応器内の触媒にプラズマを照射し供給された原料ガスおよび酸化剤ガスを改質して生成ガスを製造するガス製造システムにおいて、 前記原料ガスを前記反応器に供給する原料ガス供給手段と、 前記酸化剤ガスを前記反応器に供給する酸化剤ガス供給手段と、 前記原料ガス供給手段が前記反応器に供給する前記原料ガスの供給量と、前記酸化剤ガス供給手段が前記反応器に供給する前記酸化剤ガスの供給量との比率を変化させるガス比率変化手段と、 前記触媒に照射するプラズマを発生させるプラズマ発生手段と、を備えるガス製造システム。

IPC (1件)：

C01B 3/38

FI (1件)：

C01B3/38

Fターム (8件)：

4G140EA03 ,  4G140EA05 ,  4G140EA06 ,  4G140EA07 ,  4G140EB12 ,  4G140EB41 ,  4G140EB43 ,  4G140EB46