特許

J-GLOBAL ID：202103018475531890

金属オキソ錯体およびその製造方法

発明者： 押木 俊之 ,  鎌田 満
出願人/特許権者： RIMTEC株式会社
代理人 (1件)： とこしえ特許業務法人
公報種別：再公表公報
出願番号（国際出願番号）：JP2019041320
公開番号（公開出願番号）：WO2020-085306
出願日： 2019年10月21日
公開日（公表日）： 2020年04月30日
要約：

下記一般式(1)で表される金属オキソ錯体を提供する。 〔上記一般式(1)中、Mはモリブデン原子またはタングステン原子を表し、Aは炭素原子、ケイ素原子、ゲルマニウム原子、スズ原子または鉛原子を表し、X1およびX2は、それぞれ独立してハロゲン原子を表し、R1〜R5は、それぞれ独立して、水素原子、置換基を有していてもよい直鎖もしくは分岐鎖の炭素数1〜20のアルキル基、または置換基を有していてもよい炭素数6〜20のアリール基を表し、R1〜R3は、それぞれ互いに結合して環を形成していてもよい。〕

請求項（抜粋）：

下記一般式(1)で表される金属オキソ錯体。

IPC (5件)：

C07F 11/00 ,  C07F 19/00 ,  C07F 7/12 ,  C08G 61/06 ,  C08F 4/78

FI (5件)：

C07F11/00 C ,  C07F19/00 ,  C07F7/12 V ,  C08G61/06 ,  C08F4/78

Fターム (29件)：

4H049VN01 ,  4H049VP01 ,  4H049VQ09 ,  4H049VR23 ,  4H049VR41 ,  4H049VS16 ,  4H049VU14 ,  4H049VW02 ,  4H050AA01 ,  4H050AA02 ,  4H050AA03 ,  4H050AB40 ,  4H050WA15 ,  4H050WA23 ,  4J015DA37 ,  4J032AA42 ,  4J032AB01 ,  4J032AC02 ,  4J032CA32 ,  4J032CA33 ,  4J032CA34 ,  4J032CA68 ,  4J032CB04 ,  4J032CD02 ,  4J032CD03 ,  4J032CD04 ,  4J032CD07 ,  4J032CD09 ,  4J032CE03