ガス製造システム及びガス製造方法

発明者： , , ,
出願人/特許権者： ,
代理人 (4件)：大岩増雄 , 竹中岑生 , 村上啓吾 , 吉澤憲治
公報種別：再公表公報
出願番号（国際出願番号）：JP2019017116
公開番号（公開出願番号）：WO2020-217289
出願日： 2019年04月23日
公開日（公表日）： 2020年10月29日
要約：

ガス製造システムは、被処理ガス(8)の流路(9)を形成する反応器(2)、電圧が印加される第一の電極(3)及び第二の電極(4)、及び流路(9)に配置され触媒を含む触媒層(5)を有するガス製造装置と、第一の電極(3)及び第二の電極(4)に印加する電圧を発生させる電圧発生手段(12)と、被処理ガス(8)をガス製造装置に供給するガス供給手段と、を備え、電圧発生手段(12)は、被処理ガス(8)に応じて電圧の周波数を設定する周波数設定手段(13)を有し、第一の電極(3)と第二の電極(4)との間に発生したプラズマを触媒層(5)に照射し、被処理ガス(8)を改質して生成ガス(11)を得る。

請求項（抜粋）：

触媒にプラズマを照射して被処理ガスを改質し生成ガスを製造するガス製造システムにおいて、電圧を発生させる電圧発生手段と、前記電圧発生手段により発生させた電圧を用いて前記触媒に照射するプラズマを発生させるプラズマ発生手段と、前記被処理ガスに応じて前記電圧の周波数を設定する周波数設定手段と、を備えるガス製造システム。

IPC (3件)：

C01B 3/26 , B01J 23/755 , B01J 19/08

FI (3件)：

C01B3/26 , B01J23/755 M , B01J19/08 E

Fターム (29件)：

4G075AA03 , 4G075AA61 , 4G075BA01 , 4G075BA05 , 4G075CA02 , 4G075CA47 , 4G075CA51 , 4G075CA54 , 4G075CA65 , 4G075DA02 , 4G075DA18 , 4G075EA02 , 4G075EA06 , 4G075EB21 , 4G075EB41 , 4G075EC06 , 4G075EC21 , 4G075FC15 , 4G140DA03 , 4G140DB01 , 4G140DB04 , 4G169AA04 , 4G169BB02A , 4G169BC29A , 4G169BC66A , 4G169BC67A , 4G169BC68A , 4G169CB81 , 4G169GA03

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