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J-GLOBAL ID：202202278210298574   整理番号：22A2503349

二段階成長における平坦な黒燐構造Bi(110)超薄膜の成長過程

Formation of extremely flat Black-Phosphorus like Bi(110) ultrathin films by the two step growth

著者 (4件)： 志村舞望 (東京工大 理) ,  潮田亮太 (東京工大 理) ,  中辻寛 (東京工大) ,  平山博之 (東京工大 理)
資料名： 日本物理学会講演概要集(CD-ROM)  (Meeting Abstracts of the Physical Society of Japan (CD-ROM))
巻： 77  号： 1  ページ： ROMBUNNO.16aGE11-4  発行年： 2022年03月24日 
JST資料番号： S0671C  ISSN： 2189-079X  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

本文一部表示： Biを様々な半導体基板の上にエピタキシャル成長させると成長初期段階で黒燐構造Bi(110)と呼ばれる構造が出現する。その中でも、2原子層と4原子層の黒燐構造Bi(110)超薄膜は二次元トポロジカル絶縁体となることが理論的に予言されている[1...【本文一部表示】

シソーラス用語： *超薄膜 ,  黒リン ,  *エピタクシー ,  *ビスマス ,  ウエハ【IC】 ,  構造相転移 ,  電子顕微鏡観察 ,  シリコンウエハ
準シソーラス用語： ケイ素基板

分類 (1件)： 金属薄膜  (BK14030T)

タイトルに関連する用語 (6件)： 段階 ,  成長 ,  黒燐 ,  Bi ,  薄膜 ,  成長過程