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J-GLOBAL ID:202202280527350761   整理番号:22A2448433

大気圧化学気相堆積法によるr面サファイア基板上へのβ-Ga2O3及びZnGa2O4薄膜成長

Atmospheric-pressure Chemical Vapor Deposition of β-Ga2O3 and ZnGa2O4 Thin Films on r-Plane Sapphire Substrates
著者 (3件):
資料名:
巻: 122  号: 147(CPM2022 11-20)  ページ: 26-29 (WEB ONLY)  発行年: 2022年07月28日 
JST資料番号: U2030A  ISSN: 2432-6380  資料種別: 会議録 (C)
記事区分: 原著論文  発行国: 日本 (JPN)  言語: 日本語 (JA)
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Zn,GaおよびH2Oを原料に用いた大気圧化学気相堆積(AP-CVD)法によってr面サファイア基板上へのZnGa2O4で試みた.X線回折(XRD)測定から成長温度と原料ボート-基板間距離がZnGa2O4の成長にとって重要なファクターであることが明らかになった.原料ボートに近接する位置に置かれた基板上には多結晶β-Ga2O3が優先的に成長し,その結晶粒サイズは成長温度の低下とともに減少した.一方,原料ボートからわずかに離れた位置に置かれた基板上に多結晶ZnGa2O4薄膜が成長する傾向があった.多結晶ZnGa2O4薄膜の表面モフォロジーは,β-Ga2O3薄膜とは著しく異なっていた.多結晶ZnGa2O4は基板表面上にまばらに分布した島状構造からなっていた.(著者抄録)
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酸化物薄膜 
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