特許
J-GLOBAL ID:202203005144371950
再構成膜、再構成膜の作成方法、光酸化反応駆動方法、および、メタノール製造方法
発明者:
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出願人/特許権者:
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代理人 (1件):
弁理士法人R&C
公報種別:特許公報
出願番号(国際出願番号):特願2018-151905
公開番号(公開出願番号):特開2020-025497
特許番号:特許第7177432号
出願日: 2018年08月10日
公開日(公表日): 2020年02月20日
請求項(抜粋):
【請求項1】 メタンモノオキシゲナーゼと、光合成反応タンパク質PSIIとを、キノンプールを内包する状態に保持した再構成膜。
IPC (2件):
C12N 11/02 ( 200 6.01)
, C12P 7/04 ( 200 6.01)
FI (2件):
引用特許:
引用文献:
審査官引用 (1件)
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J. Name., 2012, Vol.00, No.1-3, pp.1-5
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