特許

J-GLOBAL ID：202203011326389560

二座ホスフィン配位子を有するロジウム錯体及びその製造方法、並びに二座ホスフィン配位子を有するロジウム錯体を用いるハロゲン化アリルのヒドロシリル化

発明者： 猪股 航也 ,  永縄 友規 ,  佐藤 一彦 ,  中島 裕美子
出願人/特許権者： 国立研究開発法人産業技術総合研究所
代理人 (1件)： 弁理士法人秀和特許事務所
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2019-009700
公開番号（公開出願番号）：特開2020-117459
特許番号：特許第7169648号
出願日： 2019年01月23日
公開日（公表日）： 2020年08月06日
請求項（抜粋）：

【請求項1】 式(C-1)で表されるロジウム錯体。(式(C-1)中、R1はそれぞれ独立して炭素原子数6~20の芳香族炭化水素基を、R2はハロゲン原子で置換された炭素原子数6~20の2価の芳香族炭化水素基を、Yは塩化物イオン(Cl-)、臭化物イオン(Br-)、及びヨウ化物イオン(I-)からなる群より選択される配位子若しくは対イオンを表す。)

IPC (4件)：

C07F 9/50 ( 200 6.01) ,  C07F 7/12 ( 200 6.01) ,  C07F 15/00 ( 200 6.01) ,  C07B 61/00 ( 200 6.01)

FI (4件)：

C07F 9/50 CSP ,  C07F 7/12 K ,  C07F 15/00 B ,  C07B 61/00 300

引用特許：

審査官引用 (5件)

• 特許第6011798号
  
• 3-キヌクリジノンエノールエステルおよびそれを使用した光学活性3-キヌクリジノールエステルの製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2002-234650   出願人：川研ファインケミカル株式会社
• 新規ジホスフィン化合物、その製造方法及びそれを含む金属錯体
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2009-017385   出願人：国立大学法人岡山大学
• 中性ロジウム-ホスフィン錯体の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2004-101057   出願人：高砂香料工業株式会社
• 特許第6967775号
  

引用文献：

審査官引用 (5件)

• Oxidative addition of CH2Cl2 to neutral dimeric rhodium diphosphine complexes
• In Situ Synthesis of Neutral Dinuclear Rhodium Diphosphine Complexes [{Rh(diphosphine)(μ2-X)}2]: Sy
• Synthesis and NMR spectra of derivatives of the polykis(diphenylphosphino)benzenes, (Ph2P)nC6H6-n [n
• Rhodium-catalyzed alkene hydrosilylation via a hydride shuttle process by diene ligands: dramatic en
• Mechanistic insights into the iridium-catalyzed hydrosilylation of allyl compounds