特許

J-GLOBAL ID：202203014608264727

エレクトロクロミック膜付き基板及びその製造方法

発明者： 西原 寛 ,  坂本 良太 ,  前田 啓明 ,  ▲呉▼ 國暉 ,  獅野 裕一
出願人/特許権者： 国立大学法人 東京大学 ,  東海光学株式会社
代理人 (1件)： アクシス国際特許業務法人
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2018-004504
公開番号（公開出願番号）：特開2019-124791
特許番号：特許第7113445号
出願日： 2018年01月15日
公開日（公表日）： 2019年07月25日
請求項（抜粋）：

【請求項1】 透明導電体膜が一方又は両方の主表面に形成された基板上に、電解重合法により、次式(I)で表される化学構造を有するビステルピリジン金属錯体をモノマーとするポリマーを成長させる工程を含むエレクトロクロミック膜付き基板の製造方法。(式中、R1はそれぞれ独立に水素原子又は置換基を表し、隣接したR1同士は結合して環を形成してもよく、Mは金属原子を表し、Zは対イオンを表し、m、n及びkは0以上の整数で、m=n×kを満たす。)

IPC (3件)：

G02F 1/15 ( 201 9.01) ,  G02F 1/155 ( 200 6.01) ,  G02C 7/10 ( 200 6.01)

FI (6件)：

G02F 1/15 505 ,  G02F 1/15 503 ,  G02F 1/15 508 ,  G02F 1/15 507 ,  G02F 1/155 ,  G02C 7/10

引用特許：

審査官引用 (2件)

• エレクトロクロミック装置及びその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2015-104328   出願人：株式会社リコー
• エレクトロクロミック膜の成膜方法、エレクトロクロミック膜及びエレクトロクロミック膜被膜導電体層付き基板
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2014-122511   出願人：国立研究開発法人物質・材料研究機構