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J-GLOBAL ID：202302253569881084   整理番号：23A0204885

分子線エピタキシー法による高品質Sr₃Ru₂O₇薄膜の作製と評価

Fabrication of High-Quality Sr₃Ru₂O₇ Thin Films by Molecular Beam Epitaxy

著者 (6件)： 大城蓮 (東京工大 理) ,  西早辰一 (東京工大 理) ,  藤田貴啓 (東大 工) ,  川崎雅司 (東大 工) ,  川崎雅司 (理研 CEMS) ,  打田正輝 (東京工大 理)
資料名： 応用物理学会秋季学術講演会講演予稿集(CD-ROM)  (Extended Abstracts. JSAP Autumn Meeting (CD-ROM))
巻： 83rd  ページ： ROMBUNNO.20p-B204-3  発行年： 2022年08月26日 
JST資料番号： Y0055B  ISSN： 2758-4704  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

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シソーラス用語： X線回折 ,...
準シソーラス用語： 輸送特性

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分類 (3件)： 蛋白質・ペプチド一般  (EB03010N) ,  その他の無機化合物の薄膜  (BK14060A) ,  分析機器  (CC02020S)

タイトルに関連する用語 (5件)： 分子線エピタキシー法 ,  高品質 ,  薄膜 ,  作製 ,  評価