文献

J-GLOBAL ID：202302268009850660   整理番号：23A2512846

PLDによるY₂O₃薄膜成長におけるHeバッファーガスの効果

He buffer gas effect on Y₂O₃ thin film growth

著者 (5件)： 高橋竜太 (日本大 工) ,  鈴木静華 (日本大 工) ,  徳永智春 (名古屋大 工) ,  山本剛久 (名古屋大 工) ,  LIPPMAA Mikk (東大 物性研)
資料名： 応用物理学会春季学術講演会講演予稿集(CD-ROM)  (Extended Abstracts. JSAP Spring Meeting (CD-ROM))
巻： 70th  ページ： ROMBUNNO.15a-A409-4  発行年： 2023年02月27日 
JST資料番号： Y0054B  ISSN： 2758-4704  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

本文一部表示： [はじめに]パルスレーザー堆積(PLD)装置を用いてより高い結晶性を有する酸化物薄膜を堆積するには、温度と酸素圧が最適化されたGrowth windowとも呼ばれる熱力化学的条件下で薄膜を作ることが望まれる。しかし、Nd:YAGなどの高いエ...【本文一部表示】

シソーラス用語： X線回折 ,  格子定数 ,  混合気体 ,  最適化 ,  電流 ,  *薄膜 ,  酸素 ,  *ヘリウム ,  *酸化イットリウム ,  パルスレーザ ,  チタン酸ストロンチウム ,  プルーム ,  アブレーション ,  薄膜形成 ,  酸素雰囲気 ,  改変

分類 (1件)： 炭素とその化合物  (YB02060D)

タイトルに関連する用語 (5件)： PLD ,  Y2O3 ,  薄膜成長 ,  He ,  バッファーガス