二座ホスフィン配位子を有するロジウム錯体及びその製造方法、並びに二座ホスフィン配位子を有するロジウム錯体を用いるハロゲン化アリルのヒドロシリル化

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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：弁理士法人秀和特許事務所
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2019-009700
公開番号（公開出願番号）：特開2022-191351
特許番号：特許第7370099号
出願日： 2019年01月23日
公開日（公表日）： 2022年12月27日
請求項（抜粋）：

【請求項1】ロジウム前駆錯体(A)と式(P-1)で表される二座ホスフィン配位子を溶媒の存在下で反応させて得られる反応液から式(C-1)で表されるロジウム錯体を取得する工程、及び前記工程で取得した式(C-1)で表されるロジウム錯体の存在下、式(D)で表されるハロゲン化アリルと式(E)で表されるヒドロシランを反応させて式(F)で表される3-ハロプロピルシランを生成する反応工程を含む、ハロプロピルシランの製造方法。(式(P-1)及び式(C-1)中、R1はそれぞれ独立して炭素原子数6~20の芳香族炭化水素基を、R2はハロゲン原子で置換されていてもよい炭素原子数6~20の2価の芳香族炭化水素基を、Yは塩化物イオン(Cl-)、臭化物イオン(Br-)、及びヨウ化物イオン(I-)からなる群より選択される配位子若しくは対イオンを表す。)(式(D)~(F)中、Xは塩素原子、臭素原子、又はヨウ素原子を、R6は水素原子、又は酸素原子、窒素原子、及びハロゲン原子からなる群より選択される少なくとも1種の原子を含んでいてもよい炭素原子数1~20の炭化水素基を、R7は水素原子、又は酸素原子、窒素原子、及びハロゲン原子からなる群より選択される少なくとも1種の原子を含んでいてもよい炭素原子数1~20の炭化水素基を、R8は水素原子、又は酸素原子、窒素原子、及びハロゲン原子からなる群より選択される少なくとも1種の原子を含んでいてもよい炭素原子数1~20の炭化水素基を、R9は水素原子、又は酸素原子、窒素原子、及びハロゲン原子からなる群より選択される少なくとも1種の原子を含んでいてもよい炭素原子数1~20の炭化水素基を表す。R10はそれぞれ独立して水素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、炭素原子数1~20のアルコキシ基、炭素原子数0~30のシリルオキシ基、又はハロゲン原子を含んでいてもよい炭素原子数1~20の炭化水素基を表す。)

IPC (3件)：

C07F 7/12 ( 200 6.01) , B01J 31/24 ( 200 6.01) , C07B 61/00 ( 200 6.01)

FI (3件)：

C07F 7/12 J , B01J 31/24 Z , C07B 61/00 300

引用特許：

審査官引用 (5件)

特許第6011798号
3-キヌクリジノンエノールエステルおよびそれを使用した光学活性3-キヌクリジノールエステルの製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2002-234650 出願人：川研ファインケミカル株式会社
新規ジホスフィン化合物、その製造方法及びそれを含む金属錯体
公報種別：公開公報出願番号：特願2009-017385 出願人：国立大学法人岡山大学

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引用文献：

審査官引用 (5件)

Oxidative addition of CH2Cl2 to neutral dimeric rhodium diphosphine complexes
In Situ Synthesis of Neutral Dinuclear Rhodium Diphosphine Complexes [{Rh(diphosphine)(μ2-X)}2]: Sy
Synthesis and NMR spectra of derivatives of the polykis(diphenylphosphino)benzenes, (Ph2P)nC6H6-n [n

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