特許
J-GLOBAL ID：202303020593620057
表面欠陥検査装置及び表面欠陥検査方法
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (2件)：
藤木 博
, 吉川 まゆみ
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2021-159570
公開番号（公開出願番号）：特開2023-049683
出願日： 2021年09月29日
公開日（公表日）： 2023年04月10日
要約：
【課題】パラメータの設定を自動で行うことができる表面欠陥検査装置及び表面欠陥検査方法を提供する。
【解決手段】欠陥候補抽出手段40は、撮影手段20により得られた画像に基づく抽出対象画像ついて2値化処理を行い1次欠陥候補を抽出する1次抽出手段44と、1次欠陥候補から欠陥候補を抽出する2次抽出手段46とを有する。1次抽出手段44は、抽出対象画像について、2値化閾値を2値化基準値から一方向に順に変化させながら2値化処理を順に行い、処理の順に得られた2値化画像を比較し、欠陥候補点の出現数が所定の基準数よりも少ない状態から所定の基準数以上となった時、又は、欠陥候補点の出現数が所定の基準数よりも多い状態から所定の基準数以下となった時の2値化画像を閾値画像として、この閾値画像から1次欠陥候補を抽出する。
【選択図】図2
請求項（抜粋）：
被検査面に光を照射する光源と、
前記光源により照射された前記被検査面を撮影して画像を得る撮影手段と、
前記撮影手段により撮影した画像から欠陥候補を抽出する欠陥候補抽出手段と、
前記欠陥候補抽出手段により抽出した欠陥候補に基づき欠陥を検出する欠陥検出手段とを備え、
前記欠陥候補抽出手段は、前記撮影手段により得られた画像に基づく抽出対象画像について、2値化閾値を2値化基準値から一方向に順に変化させながら2値化処理を順に行い、処理の順に得られた複数の2値化画像を比較し、欠陥候補点の出現数が所定の基準数よりも少ない状態から所定の基準数以上となった時の2値化画像、又は、欠陥候補点の出現数が所定の基準数よりも多い状態から所定の基準数以下となった時の2値化画像を閾値画像とし、この閾値画像から、前記欠陥候補を抽出するための1次欠陥候補を抽出する1次抽出手段を有する
ことを特徴とする表面欠陥検査装置。
IPC (1件)：
FI (1件)：
Fターム (12件)：
2G051AA89
, 2G051AB12
, 2G051AC02
, 2G051BA01
, 2G051CA04
, 2G051CB01
, 2G051DA06
, 2G051DA15
, 2G051EA11
, 2G051EB01
, 2G051EB02
, 2G051EC03
