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J-GLOBAL ID：202402241620596591   整理番号：24A1345634

シルセスキオキサン鎖を有する液晶ブロック共重合体の合成と多孔質薄膜化

Synthesis and Porous Thin Film Formation of Silsesquioxane-Containing Liquid Crystalline Block Copolymers

著者 (3件)： 森本虎太郎 (立教大 院) ,  石崎裕也 (立教大 院) ,  永野修作 (立教大 院)
資料名： 日本液晶学会討論会講演予稿集(CD-ROM)  (日本液晶学会オンライン研究発表会講演予稿集(CD-ROM))
巻： 2023  ページ： 323-324  発行年： 2023年09月04日 
JST資料番号： L3567B  ISSN： 1880-3490  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

本文一部表示： アゾベンゼン(Az)および多面体オリゴマシルセスキオキサン(POSS)誘導体を有する液晶ブロック共重合体,P5OA...【JST機械翻訳】【本文一部表示】

シソーラス用語： イオン ,  *薄膜 ,  分子 ,  酸素 ,  光照射 ,  *重合 ,  静電相互作用 ,  *ブロック共重合体 ,  二酸化ケイ素 ,  高分子 ,  酸化還元反応 ,  側鎖 ,  サイクリックボルタンメトリー ,  原子間力顕微鏡 ,  ナノ構造

分類 (1件)： ネマチック相  (BK03020W)

タイトルに関連する用語 (5件)： シルセスキオキサン ,  液晶 ,  ブロック共重合体 ,  多孔質 ,  薄膜化