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J-GLOBAL ID：202402266278541101   整理番号：24A1646883

Cu(001)基板上のPd超薄膜における合金化と電子状態

Electronic states of Alloying Pd ultra thin films on Cu(001)

著者 (8件)： 河添理央 (東京工大) ,  片野達貴 (東京工大) ,  大島尚樹 (東京工大) ,  加賀大暉 (東京工大) ,  飯盛拓嗣 (東大 物性研) ,  小森文夫 (東京工大) ,  平山博之 (東京工大 理) ,  中辻寛 (東京工大)
資料名： 日本物理学会講演概要集(CD-ROM)  (Meeting Abstracts of the Physical Society of Japan (CD-ROM))
巻： 79  号： 1  ページ： ROMBUNNO.18pPSJ-7  発行年： 2024年03月22日 
JST資料番号： S0671C  ISSN： 2189-079X  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

本文一部表示： PdCu合金は水素吸蔵性を持つことが知られているが、合金表面での水素吸着反応の詳しいメカニズムについては明らかになっていない点が残っている。本講演ではCu(001)基板上のPd膜...【本文一部表示】

シソーラス用語： 基板 ,  *超薄膜 ,  パラジウム ,  合金化 ,  電子状態 ,  *吸着 ,  水素吸蔵 ,  低速電子回折 ,  水素吸着 ,  銅基板 ,  改変

分類 (2件)： 表面の電子構造  (BM02080J) ,  金属の表面構造  (BK15020P)

タイトルに関連する用語 (5件)： Cu ,  PD ,  超薄膜 ,  合金化 ,  電子状態