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J-GLOBAL ID：202402285707971438   整理番号：24A0611933

PVD-WS₂膜へのCl₂プラズマ処理によるドーピングの効果とエッチングの影響

Effects of doping and influences of etching by Cl₂ plasma treatment for PVD-WS₂ films

著者 (5件)： 黒原啓太 (東京工大) ,  今井慎也 (東京工大) ,  冨谷茂隆 (東京工大) ,  辰巳哲也 (東京工大) ,  若林整 (東京工大)
資料名： 応用物理学会秋季学術講演会講演予稿集(CD-ROM)  (Extended Abstracts. JSAP Autumn Meeting (CD-ROM))
巻： 84th  ページ： ROMBUNNO.21a-A202-4  発行年： 2023年09月05日 
JST資料番号： Y0055B  ISSN： 2758-4704  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

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シソーラス用語： 電気伝導率 ,...

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分類 (2件)： 蛋白質・ペプチド一般  (EB03010N) ,  生体膜一般  (EF04010G)

タイトルに関連する用語 (4件)： PVD ,  プラズマ処理 ,  ドーピング ,  エッチング