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J-GLOBAL ID：202502211387759156   整理番号：25A1046633

リン修飾したCHA型ゼオライト膜の作製と気体透過性

著者 (7件)： 荒木貞夫 (関西大) ,  前川幸輝 (関西大) ,  津野地直 (広島大 大学院) ,  廣田雄一朗 (名古屋工大) ,  池田歩 (産業技術総合研) ,  長谷川泰久 (産業技術総合研) ,  山本秀樹 (関西大)
資料名： 化学工学会秋季大会研究発表講演要旨集(CD-ROM)  (化学工学会秋季大会(CD-ROM))
巻： 55th  ページ： ROMBUNNO.G113  発行年： 2024年09月11日 
JST資料番号： L0827B  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

本文一部表示： 1.緒言.CHA型ゼオライトは高い分離性能、透過性および安定性を有する膜材料として注目されている1)。また、CHA型ゼオライトは0.38 nm×0.38 nmの細孔を有する三次元小細孔ゼオライトであり、優れた拡散性を示す。ゼオライトの物理化...【本文一部表示】

シソーラス用語： *透気性 ,  *CHA型ゼオライト ,  *ゼオライト膜 ,  透過率 ,  構造誘導剤 ,  有機構造規定剤 ,  鋳型反応 ,  化学修飾 ,  リン ,  *膜分離 ,  二酸化炭素 ,  X線回折 ,  製膜 ,  ガス分離

分類 (2件)： 膜分離  (XD02120Z) ,  合成鉱物  (CD01040K)

物質索引 (2件)： テトラエチルホスホニウム・ヒドロキシド ,  メタン

タイトルに関連する用語 (5件)： リン ,  修飾 ,  CHA型ゼオライト ,  作製 ,  気体透過性