文献

J-GLOBAL ID：202502284870261548   整理番号：25A1419162

リモートプラズマCVD法を用いたダイヤモンド成長におけるCO₂添加の影響評価

Effect of CO₂ Addition on Diamond Growth Using Remote Plasma CVD Method

著者 (6件)： 桂健斗 (九大 大学院総合理工学府(Kyushu Univ)) ,  桂健斗 (産総研(AIST)) ,  楢木野宏 (九大 大学院総合理工学府(Kyushu Univ)) ,  大曲新矢 (産総研(AIST)) ,  吉武剛 (九大 大学院総合理工学府(Kyushu Univ)) ,  蔭浦泰資 (産総研(AIST))
資料名： 応用物理学会九州支部学術講演会講演予稿集(Web)  (Abstract Book. Asian Applied Physics Conference (Web))
巻： 50  ページ： 49 (WEB ONLY)  発行年： 2024年12月07日 
JST資料番号： U0757A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *リモートプラズマ生成 ,  *プラズマCVD ,  *ダイヤモンド膜 ,  *二酸化炭素 ,  *ドーピング ,  結晶度 ,  成長速度 ,  表面形状 ,  炭化水素

分類 (1件)： その他の無機化合物の薄膜  (BK14060A)

タイトルに関連する用語 (5件)： プラズマCVD法 ,  ダイヤモンド ,  成長 ,  CO2 ,  影響評価