文献
J-GLOBAL ID：202602240918794471
整理番号：26A1042504
大面積表面処理のための低粒子放出を持つ大気線形型混合ガスプラズマ源
Atmospheric linear-type mixed-gas plasma source with low-particle emission for large area surface treatment
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著者 (6件)：
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資料名：
巻：
19
号：
2
ページ：
ROMBUNNO.e02025 (WEB ONLY)
発行年：
2025年
JST資料番号：
U2009A
ISSN：
2435-0125
資料種別：
逐次刊行物 (A)
記事区分：
短報
発行国：
日本 (JPN)
言語：
英語 (EN)
抄録/ポイント：
抄録/ポイント
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近年,大気圧低温プラズマは表面処理に広く利用されている。当研...
シソーラス用語：
シソーラス用語/準シソーラス用語
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準シソーラス用語：
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分類 (1件)：
分類
JSTが定めた文献の分類名称とコードです
プラズマ装置
引用文献 (27件)：
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Ohta T., Ogasawara T., Iwai T., Miyahara H., and Okino A., development of ultrasonic pulsed plasma jet source for remote surface treatment, Appl. Sci., Vol. 13 (444), 13010444, 2007.
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Eichler M., Michel B., Thomas M., Gabiel M., and Klages C.-P., Atmospheric-pressure plasma pretreatment for direct bonding of silicon wafers at low temperatures, Surface Coat. Technol., Vol. 203, pp. 826-829, 2008.
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Suenaga Y., Kawano H., Takamatsu T., Matsumura Y., Ito N., Iwasawa A., and Okino A., Ultrasonic-combined plasma bubbling for adherent bacteria disinfection on medical equipment, Plasma Chem. Plasma Proc., Vol. 42, pp. 575-586, 2022.
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Yim J.H., Rodriguez-Santiago V., Williams A.A., Gougousi T., Pappas D.D., and Hirvonen J.K., Atmospheric pressure plasma enhanced chemical vapor deposition of hydrophobic coatings using fluorine-based liquid precursors, Surface Coat. Technol., Vol. 234, pp. 21-32, 2013.
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Sasaki R., Kumagai W., Miyahara H., Shimada R., Hotta E., and Okino A., Atmospheric large sized remote plasma source for surface treatment, IEEJ Trans. FM., Vol. 129 (12), pp. 903-908, 2009.
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タイトルに関連する用語 (7件)：
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