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J-GLOBAL ID：202602277823866267   整理番号：26A1350252

PVD-WS₂膜の窒素中水素混合ガスプラズマによるp型化窒素ドーピング

P-type nitrogen doping of PVD-WS₂ film using H₂/N₂ gas plasma

著者 (9件)： 寺岡楓 (東京科大) ,  伊東壮真 (東京科大) ,  JANG Jaehyo (東京科大) ,  松永尚樹 (東京科大) ,  野澤俊輔 (東京科大) ,  布施太翔 (東京科大) ,  星井拓也 (東京科大) ,  角嶋邦之 (東京科大) ,  若林整 (東京科大)
資料名： 応用物理学会学術講演会講演予稿集(CD-ROM)  (応用物理学会春季学術講演会講演予稿集(CD-ROM))
巻： 73rd  ページ： ROMBUNNO.15p-M_124-3  発行年： 2026年 
JST資料番号： Y0054C  ISSN： 2436-7613  資料種別： 会議録 (C)
発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

タイトルに関連する用語 (6件)： PVD ,  窒素 ,  水素 ,  混合ガス ,  プラズマ ,  窒素ドーピング