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J-GLOBAL ID：201602249617603373   整理番号：16A1116702

大きなクラスタイオンビームを用いた低真空SIMS機器の開発

Development of Low-vacuum SIMS instruments with large cluster Ion beam

著者 (9件)： Suzuki K. (Department of Nuclear Engineering, Kyoto University, Uji, 611-0011, Kyoto, Japan. [e-mail]) ,  Kusakari M. (Department of Nuclear Engineering, Kyoto University, Uji, 611-0011, Kyoto, Japan) ,  Fujii M. (Quantum Science and Engineering Center, Kyoto University, Uji, 611-0011, Kyoto, Japan) ,  Seki T. (Department of Nuclear Engineering, Kyoto University, Uji, 611-0011, Kyoto, Japan) ,  Seki T. (SENTAN, Japan Science and Technology Agency (JST), Chiyoda, 102-0075, Tokyo, Japan) ,  Aoki T. (Department of Electronic Science and Engineering, Kyoto University, Nishikyo, 615-8510, Kyoto, Japan) ,  Aoki T. (SENTAN, Japan Science and Technology Agency (JST), Chiyoda, 102-0075, Tokyo, Japan) ,  Matsuo J. (Quantum Science and Engineering Center, Kyoto University, Uji, 611-0011, Kyoto, Japan) ,  Matsuo J. (SENTAN, Japan Science and Technology Agency (JST), Chiyoda, 102-0075, Tokyo, Japan)
資料名： Surface and Interface Analysis  (Surface and Interface Analysis)
巻： 48  号： 11  ページ： 1119-1121  発行年： 2016年11月 
JST資料番号： E0709A  ISSN： 0142-2421  CODEN： SIANDQ  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： Ar_n⁺(n>1000)のような大きなクラスタイオンは,その大きな質量のためモノマーイオンや他の小さなクラスタイオンよりも優れた透過率を有することが期待され,したがって低真空圧力でさえも二次イオン質量分析測定におけるプローブとして使用できる可能性がある。本研究では,低真空下でのArガスクラスタイオンビームの透過特性とスパッタリング特性を調べた。低真空(<50Pa)下で変化する標的チャンバ圧力で得られたNiメッシュ(400線/インチ)の本画像は,クラスタイオンが広い発散なしで標的に到達できることを示した。さらに,クラスタイオンが80Paでさえ有機サンプルをスパッタできることを実証した。80Paでスパッタリング効率は2桁低下したが,4nA,すなわち従来のアルゴンガスクラスタイオンビーム源より1桁または2桁高いビーム電流で,ビーム集束(約20μm)を達成した。これらの結果から,低真空二次イオン質量分析測定(<80Pa)が達成可能であると結論付けた。Copyright 2017 Wiley Publishing Japan K.K. All Rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.

シソーラス用語： *二次イオン質量分析 ,  クラスタイオン ,  *イオンビーム ,  *アルゴン ,  質量分析計
準シソーラス用語： *クラスタイオンビーム

著者キーワード (3件)： SIMS ,  GCIB ,  low vacuum

分類 (1件)： 質量分析計  (BD02060M)

タイトルに関連する用語 (4件)： クラスタイオンビーム ,  真空 ,  SIMS ,  開発