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J-GLOBAL ID：201702217890029779   整理番号：17A0193523

マイクロフォンアレイを用いた枚葉式半導体洗浄装置内に形成される大規模渦構造の検出

Large-scale vortical structure detection using microphone array in a semiconductor single wafer spin cleaner

著者 (5件)： 河内俊憲 (岡山大 大学院自然科学研究科) ,  三好勇輝 (岡山大 大学院自然科学研究科) ,  中野裕介 (岡山大 大学院自然科学研究科) ,  永田靖典 (岡山大 大学院自然科学研究科) ,  柳瀬眞一郎 (岡山大 大学院自然科学研究科)
資料名： 日本機械学会論文集(Web)  (Bulletin of the JSME (Web))
巻： 83  号： 845  ページ： ROMBUNNO.16-00441(J-STAGE)  発行年： 2017年 
JST資料番号： U0182B  ISSN： 2187-9761  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 本研究では枚葉式シリコンウェーハ洗浄装置内に,比較的設置が容易なマイクロフォンを多点に配置し,洗浄機内に形成される大規模渦構造が検出可能か,またPIV等では計測が困難な大規模構造の移流速度や,それを形成する渦の個数の算出が可能かどうかを検証した。その結果,マイクロフォン計測により大規模渦構造を十分捕らえられることが分かった。またこれまでの計測では得ることが難しかった大規模構造の移流速度,またそれを形成する渦の個数を定量的に算出することが,マイクフォンの信号間の相互相関や二次元フーリエ変換により可能であることが分かった。(著者抄録)

シソーラス用語： *音響アレイ ,  方式 ,  渦 ,  *流れ構造 ,  *洗浄 ,  速度 ,  相関 ,  Fourier変換 ,  回転円板 ,  圧力変動 ,  半導体プロセス
準シソーラス用語： *シリコンウエハ洗浄 ,  *マイクロホンアレイ ,  移流速度 ,  *渦構造 ,  相互相関 ,  大規模渦 ,  枚葉式

分類 (1件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

タイトルに関連する用語 (4件)： マイクロフォンアレイ ,  枚葉式 ,  洗浄装置 ,  大規模渦