研究者
J-GLOBAL ID：200901074869203523   更新日: 2022年09月14日

吉田 國雄

ヨシダ クニオ | Yoshida Kunio
所属機関・部署：
旧所属 大阪工業大学 工学部 電子情報通信工学科

旧所属 大阪工業大学 工学部 電子情報通信工学科 について


職名： 教授
研究分野 (3件)： 材料加工、組織制御 ,  電子デバイス、電子機器 ,  薄膜、表面界面物性
研究キーワード (6件)： 超精密加工 ,  高性能薄膜 ,  新デバイス開発 ,  Optical Polishing ,  Thin Films with High Quality ,  Development of New Devises
競争的資金等の研究課題 (6件)：
  • 光学材料の超精密加工に関する研究
  • 超低損失の高出力レーザー用光学薄膜の開発
  • 高平均出力・高輝度固体レーザの開発
  • Study on Optical Polishing of Optical Materials with Ultra-Smooth Surface
  • Development of Optical Thin Film with Ultra-Low Loss Used for High Power Lasers
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MISC (38件)：
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書籍 (4件)：
  • 超精密生産技術体系
    フジ・テクノサービス 1994
  • Production Technology System for Ultra-Smooth Surface Processing
    1994
  • 超精密平面と面粗さ
    (株)産業技術サービスセンター 1993
  • Ultra-Smooth Surface and Surface Roughness
    1993
Works (6件)：
  • 基板処理によるレーザー用高耐力膜の製造方法
    1987 -
  • Method of Coating for High Power Lasers Using a Substrate Processing
    1987 -
  • 多孔性薄膜の製作方法
    1985 -
  • Method of Coating Porous Thin Film on Substrate
    1985 -
  • トリガー部材付きガラスレーザー増幅装置
    1981 -
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学位 (1件)：
  • 工学博士 (大阪大学)
受賞 (1件)：
  • 1982 - 市村賞貢献賞
所属学会 (4件)：
レーザー学会 ,  日本物理学会 ,  応用物理学会 ,  電気学会
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