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J-GLOBAL ID：200902124381768794   整理番号：97A0501815

マグネトロンスパッタ法で形成したTa₂O₅光学薄膜の力学的性質

Physical Properties of Tantalum Pentoxide Thin Film Fbricated by RF-Magnetron Sputtering Method.

著者 (9件)： 神村共住 (大阪工大 工) ,  加納元 (大阪工大 工) ,  越智完好 (大阪工大 工) ,  吉田国雄 (大阪工大 工) ,  吉田英次 (大阪大 レーザー核融合研セ) ,  藤田尚徳 (大阪大 レーザー核融合研セ) ,  田村繁治 (大阪工技研) ,  谷二三夫 (新明和工業) ,  砂川道夫 (新明和工業)
資料名： 真空  (Journal of the Vacuum Society of Japan)
巻： 40  号： 3  ページ： 126-129  発行年： 1997年03月 
JST資料番号： G0194A  ISSN： 0559-8516  CODEN： SHINA  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 逆スパッタ法によって基板表面をエッチングした後,その基板面上...

シソーラス用語： スパッタ蒸着 ,...
準シソーラス用語： レーザ耐力

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分類 (2件)： 酸化物薄膜  (BK14050P) ,  レーザ照射・損傷  (BK16040S)

引用文献 (5件)：

• NOSE, Y. Jpn. J. Appl. Phys. 1987, 26, 1256
• BLOEMBERGEN, N. Appl. Opt. 1973, 12, 661
• LOWDERMILK, H. W. IEEEJ. Quantum Electron. 1981, QE-17, 1888
• YOSHIDA, K. SPIE. 1995, 2714, 340
• THORNTON, J. A. J. Vac. Sci. Technol. 1981, 18, 203

タイトルに関連する用語 (4件)： マグネトロンスパッタ法 ,  Ta2O5 ,  光学薄膜 ,  力学的性質