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J-GLOBAL ID:200902124381768794   整理番号:97A0501815

マグネトロンスパッタ法で形成したTa2O5光学薄膜の力学的性質

Physical Properties of Tantalum Pentoxide Thin Film Fbricated by RF-Magnetron Sputtering Method.
著者 (9件):
資料名:
巻: 40  号:ページ: 126-129  発行年: 1997年03月 
JST資料番号: G0194A  ISSN: 0559-8516  CODEN: SHINA  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 短報  発行国: 日本 (JPN)  言語: 日本語 (JA)
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逆スパッタ法によって基板表面をエッチングした後,その基板面上...
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分類 (2件):
分類
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酸化物薄膜  ,  レーザ照射・損傷 
タイトルに関連する用語 (4件):
タイトルに関連する用語
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