研究者
J-GLOBAL ID:201601006687750324   更新日: 2024年06月10日

原田 尚之

ハラダ タカユキ | Harada Takayuki
所属機関・部署:
職名: 独立研究者
その他の所属(所属・部署名・職名) (1件):
  • JST  「自在配列」領域   さきがけ研究者
研究分野 (1件): 薄膜、表面界面物性
研究キーワード (2件): 薄膜デバイス ,  酸化物エレクトロニクス
競争的資金等の研究課題 (16件):
  • 2024 - 2027 大きな表面分極を持つトポロジカル半金属の半導体デバイスへの応用
  • 2023 - 2026 誤り耐性型量子コンピューターに向けたアモルファス超伝導回路の創生
  • 2020 - 2023 層状金属/半導体結晶界面で実現するIoT向け耐環境エレクトロニクス
  • 2020 - 2022 イオン性層状金属の界面に現れる分極を利用した極限環境用デバイスの作製
  • 2020 - 2022 宇宙初期天体探索に向けた表面プラズモン/熱電材料赤外検出器の開発
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論文 (36件):
  • Erika Fukushi, Fumiya Mori, Kota Munefusa, Takayuki Harada, Hiroyuki Oguchi. Epitaxial Thin Film Growth of Perovskite Hydrides MLiH3 (M: Sr, Ba) for the Study of Intrinsic Hydride-Ion Conduction. ACS Applied Energy Materials. 2024. 7. 7. 2810-2815
  • Hitoshi Takane, Takayoshi Oshima, Takayuki Harada, Kentaro Kaneko, Katsuhisa Tanaka. Rutile-type GexSn1-xO2 alloy layers lattice-matched to TiO2 substrates for device applications. Applied Physics Express. 2024. 17. 011008
  • T. Harada, T. Nagai, M. Oishi, Y. Masahiro. Sputter-grown c-axis-oriented PdCoO2 thin films. Journal of Applied Physics. 2023. 133. 8. 085302-085302
  • Tomoki Kawamoto, Anjana Krishnadas, Chia-Hsiu Hsu, Markel Pardo-Almanza, Yuita Fujisawa, Guoqing Chang, Takayuki Harada, Yoshinori Okada. Visualization of robust two-dimensional bulk states with suppressed surface state on epitaxial PdCoO2 thin films with bipolar surfaces. Physical Review Materials. 2023. 7. 2. 024001
  • Atsushi Kobayashi, Shunya Kihira, Takahito Takeda, Masaki Kobayashi, Takayuki Harada, Kohei Ueno, Hiroshi Fujioka. Crystal-phase controlled epitaxial growth of NbNx superconductors on wide-bandgap AlN semiconductors. Advanced Materials Interfaces. 2022. 9. 2201244-2201244
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MISC (15件):
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特許 (5件):
  • 半導体装置とその製造方法
  • 半導体装置とその製造方法
  • デラフォサイト型酸化物薄膜の製造方法及び酸化物薄膜
  • パラジウムコバルト酸化物薄膜、デラフォサイト型酸化物薄膜、デラフォ サイト型酸化物薄膜を有するショットキー電極、パラジウムコバルト酸化物薄膜の製造方 法及びデラフォサイト型酸化物薄膜の製造方法
  • 記憶素子およびその製造方法
講演・口頭発表等 (19件):
  • 金属性デラフォサイトの表面・界面物性と応用展開
    (第73回化合物新磁性材料専門研究会 2024)
  • Application prospects of metallic delafossite thin films
    (4th International Workshop on Nanoelectronics 2023)
  • Polar interfaces of a high-conductivity layered oxide PdCoO2 and wide-bandgap semiconductors
    (9th International Symposium on Control of Semiconductor Interfaces 2022)
  • Delafossite electrodes for harsh-environment semiconductor devices
    (The 12th International Conference on the Science and Technology for Advanced Ceramics (STAC12) 2021)
  • 剥離・転写技術の新展開とデバイス作製への応用例
    (電気学会フレキシブルセラミックスコーティング技術調査専門委員会研究会 2019)
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学歴 (3件):
  • 2008 - 2011 東京大学 工学系研究科 応用化学専攻 博士課程
  • 2006 - 2008 東京大学 工学系研究科 応用化学専攻 修士課程
  • 2002 - 2006 東京大学 工学部 化学生命工学科
学位 (1件):
  • (工学) (東京大学)
経歴 (5件):
  • 2021/01 - 現在 国立研究開発法人物質・材料研究機構 国際ナノアーキテクトニクス研究拠点 独立研究者
  • 2020/12 - 現在 JST 「自在配列」領域 さきがけ研究者
  • 2015/04 - 2020/12 東北大学 金属材料研究所 助教
  • 2013/04 - 2015/03 Max Planck Institute for Solid State Research 研究員
  • 2011/04 - 2013/03 東京大学 物性研究所 特任研究員
受賞 (3件):
  • 2023/04 - 文部科学大臣表彰 若手科学者賞 層状酸化物の表面分極を利用したヘテロ構造デバイスの研究
  • 2018/10 - Summit of Materials Science 2018 ポスター賞
  • 2018/03 - 田中貴金属記念財団 奨励賞
所属学会 (2件):
日本物理学会 ,  応用物理学会
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