研究者
J-GLOBAL ID:201801010427427327   更新日: 2024年05月27日

蓮池 紀幸

ハスイケ ノリユキ | Noriyuki Hasuike
所属機関・部署:
職名: 助教
研究分野 (3件): 半導体、光物性、原子物理 ,  電気電子材料工学 ,  結晶工学
競争的資金等の研究課題 (5件):
  • 2022 - 2025 強誘電性κ-Ga2O3の超低消費電力パワーデバイスの開拓
  • 2019 - 2022 分極制御型超ワイドバンドギャップ半導体デバイスの開拓
  • 2017 - 2020 酸素アニオンラジカルによる低温酸化亜鉛プロセスと均一な負イオンクラスターへの挑戦
  • 2013 - 2016 酢酸亜鉛ミストと酸素負イオンプラズマを用いたZnO薄膜の室温下での生成
  • 2013 - 2016 酸化物量子井戸界面における結晶対称性の破れと偏光光電機能
論文 (68件):
  • Decomposition of the anisotropic strain in 3D-structure GaN layers using Raman spectroscopy. 2024
  • Osamu Ueda, Hiroyuki Nishinaka, Noriaki Ikenaga, Noriyuki Hasuike, Masahiro Yoshimoto. TEM characterization of defects in κ-(Inx Ga1-x )2O3 thin film grown on (001) FZ-grown ε-GaFeO3 substrate by mist CVD. Japanese Journal of Applied Physics. 2023. 62. 12
  • Sho Hasegawa, Noriyuki Hasuike, Kazutaka Kanegae, Hiroyuki Nishinaka, Masahiro Yoshimoto. Raman scattering study of photoexcited plasma in GaAsBi/GaAs heterostructures: Influence of carrier confinement on photoluminescence. Materials Science in Semiconductor Processing. 2023. 162. 107543-107543
  • Noriyuki Hasuike, Issei Maeda, Sou Isaji, Kenji Kobayashi, Kentaro Ohira, Toshiyuki Isshiki. Micro-Raman spectroscopy of bending stresses in β-Ga2O3(001) wafer. Japanese Journal of Applied Physics. 2023. 62. SF
  • Sou Isaji, Issei Maeda, Naoya Ogawa, Ryo Kosaka, Noriyuki Hasuike, Toshiyuki Isshiki, Kenji Kobayashi, Yongzhao Yao, Yukari Ishikawa. Relationship Between Propagation Angle of Dislocations in β-Ga2O3 (001) Bulk Wafers and Their Etch Pit Shapes. Journal of Electronic Materials. 2023. 52. 8. 5093-5098
もっと見る
MISC (15件):
もっと見る
講演・口頭発表等 (28件):
  • Tribo induced phase change in a-C:H films studied by Raman spectroscopy
    (9th International Tribology Conference 2023)
  • ラマン分光法によるc面GaNの面内異方性歪の評価2
    (2023年応用物理学会秋季学術講演会 2023)
  • ラマン分光法によるc面GaNの面内異方性歪の評価1
    (2023年応用物理学会秋季学術講演会 2023)
  • Auナノ粒子の局在表面プラズモンを用いたPFAフィルムの表面改質
    (2023年応用物理学会秋季学術講演会 2023)
  • 曲げ応力を印加したβ-Ga2O3(001)基板の顕微ラマン測定による断面応力評価
    (2023年応用物理学会秋季学術講演会 2023)
もっと見る
所属学会 (1件):
応用物理学会
※ J-GLOBALの研究者情報は、researchmapの登録情報に基づき表示しています。 登録・更新については、こちらをご覧ください。

前のページに戻る