研究者
J-GLOBAL ID:200901001313277792   更新日: 2022年06月28日

平藤 哲司

ヒラトウ テツジ | Hirato Tetsuji
所属機関・部署:
職名: 教授
ホームページURL (1件): http://www.mater.energy.kyoto-u.ac.jp/index.html
研究分野 (3件): 金属生産、資源生産 ,  材料加工、組織制御 ,  構造材料、機能材料
研究キーワード (6件): 機能材料の電気化学プロセス ,  湿式材料プロセス ,  表面処理 ,  Electrochemical processing for Functional Materials ,  Aqueous Processing for Materials ,  Surface Treatment
競争的資金等の研究課題 (5件):
  • 1999 - 非水溶媒を用いる電気化学プロセス
  • 電気化学的手法による材料プロセシング
  • Development of Aqueous Process for Copper Resources
  • Aqueous Processing for Recycling of Secondary Metals
  • Electrodeposition of Allos and Compounds
論文 (189件):
  • Yuki Haruta, Mioko Kawakami, Yuui Nakano, Soumya Kundu, Shinji Wada, Takumi Ikenoue, Masao Miyake, Tetsuji Hirato, Makhsud I. Saidaminov. Scalable Fabrication of Metal Halide Perovskites for Direct X-ray Flat-Panel Detectors: A Perspective. Chemistry of Materials. 2022
  • Masaki Yamagami, Shota Higashino, Takashi Yamamoto, Takumi Ikenoue, Masao Miyake, Tetsuji Hirato. Aluminum Electrodeposition in Dry Air Atmosphere: Comparative Study of an Acetamide-AlCl3 Deep Eutectic Solvent and a 1-Ethyl-3-Methylimidazolium Chloride-AlCl3 Ionic Liquid. Journal of The Electrochemical Society. 2022. 169. 6. 062502
  • Shota Higashino, Yoshikazu Takeuchi, Masao Miyake, Takumi Ikenoue, Masakazu Tane, Tetsuji Hirato. Tungsten(II) chloride hydrates with high solubility in chloroaluminate ionic liquids for the electrodeposition of Al-W alloy films. Journal of Electroanalytical Chemistry. 2022. 912. 1. 116238
  • Yuya Matamura, Makoto Kimura, Takumi Ikenoue, Masao Miyake, Tetsuji Hirato. Formation of uniquely oriented VO2 thin film by topotactic oxidation of V2O3 epitaxial film on R-plane Al2O3. Crystal Growth & Design. 2022. 22. 5. 3190
  • Yuya Matamura, Takumi Ikenoue, Masao Miyake, Tetsuji Hirato. Mist CVD of vanadium dioxide thin films with excellent thermochromic properties using a water-based precursor solution. Solar Energy Materials and Solar Cells. 2021. 230. 111287-111287
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MISC (151件):
  • 平藤 哲司, 三宅 正男. 有機溶媒からのめっき. 表面技術. 2020. 71. 12. 734-739
  • 平藤哲司. 最近の技術の進歩 1.5有機溶媒系. 表面技術. 2020. 71. 2. 120-121
  • 和田愼史, 春田優貴, 池之上卓己, 三宅正男, 平藤哲司. ミストデポジション法を用いたCs2AgBiBr6膜の作製. 応用物理学会秋季学術講演会講演予稿集(CD-ROM). 2020. 81st
  • 平藤哲司. 電析を利用した機能性コーティングに関する研究. 表面技術. 2020. 71. 1. 2-5
  • 池之上卓己, 滝野天琴, 三宅正男, 平藤哲司. ミスト CVD 法による六方晶 MoO3 薄膜の作製. 第11回ナノ構造・エピタキシャル成長講演会. 2019
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特許 (19件):
書籍 (5件):
  • 非水電解浴を用いたアルミニウムめっきに関する調査報告
    一般社団法人軽金属学会 2015 ISBN:9784905829836
  • 第5版鉄鋼便覧
    一般社団法人日本鉄鋼協会 2014
  • Treatise on Process Metallurgy,Volume 1: Process Fundamentals,pp.641-656.
    Elsevier 2013
  • 電気化学便覧 第6版
    丸善(東京) 2013
  • レアメタル便覧
    丸善 2011
講演・口頭発表等 (33件):
  • ミスト CVD 法による高 Mg 組成 Ni1-xMgxO 薄膜のエピタキシャル成長
    (第68回応用物理学会春季学術講演会 2021)
  • スマートウィンドウに向けた二酸化バナジウム膜のミスト CVD 法による作製と光学特性評価
    (第68回応用物理学会春季学術講演会 2021)
  • ミストデポジション法で作製した Cs2AgBiBr6 厚膜を用いた X 線検出
    (第68回応用物理学会春季学術講演会 2021)
  • タングステン水和物塩および無水塩を添加したイオン液体からのアルミニウム - タングステン合金電析
    (表面技術協会 第 143 回講演大会 2021)
  • 乾燥空気中でのジメチルスルホン浴を用いたアルミニウム電析
    (表面技術協会 第 143 回講演大会 2021)
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学位 (1件):
  • 工学博士
経歴 (1件):
  • 2007/08/01 - 京都大学大学院エネルギー科学研究科 教授
委員歴 (11件):
  • 2018/04 - 2022/04 日本金属学会 代議員
  • 2020/04 - 2021/03 日本金属学会 関西支部長
  • 2014/09/01 - 2020/12 - Associate Editor
  • 2016/07/01 - 2020/06/30 日本銅学会 理事
  • 2016/02/26 - 2018/02 表面技術協会 理事(副会長)
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受賞 (7件):
  • 2021/02 - 表面技術協会 論文賞 乾燥空気中でのジメチルスルホン浴を用いたアルミニウム電析
  • 2019/02 - 一般社団法人 表面技術協会 表面技術協会 協会賞
  • 2004/03 - 日本金属学会 日本金属学会功績賞[材料化学部門]
  • 2000 - 表面技術協会論文賞
  • 1999 - 表面技術協会論文賞
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所属学会 (10件):
The Electrochemical Society ,  日本銅学会 ,  粉体粉末冶金協会 ,  環境資源工学会 ,  日本鉄鋼協会 ,  軽金属学会 ,  表面技術協会 ,  The Minerals, Metals & Materials Society ,  資源・素材学会 ,  日本金属学会
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