白石正

シライシタダシ | Shiraishi Tadashi

所属機関・部署：
職名：非常勤講師

研究分野 (2件)：電子デバイス、電子機器 , 電気電子材料工学

研究キーワード (4件)：薄膜 , 結晶成長 , Thin films , Crystal Growth

競争的資金等の研究課題 (2件)：

MISC (24件)：

Isomerization effect in a-Si:H. Journal of Advanced Science. 2001. Vol.12、No.3, 206-209
Crystal Growth of AlN on AlN/Sapphire Interdegital Transducer at the Resonance Point of nitrogen-Electron Cyclotron plasma. IPAP Conf. Series the Institute of Pure and Applied Physics. 2001. 1 190-193
Crystal Growth of AlN on AlN/Sapphire Interdigital Transducer at the Resonance Point of Nitrogen-Electron Cyclotron Plasma. IPAP Conf. Series. The Institute of Pure and Applied Physics. 2001. 1. 190-193
Isomerization effect in a-SiiH. Journal of Advanced Science Society of Advanced Science. 2001. 12. 3. 206-209
T Inushima, T Ashino, K Murano, T Shiraishi, VY Davydov, S Ohoya. Heteroepitaxial growth of AlN at the resonance point of nitrogen-ECR plasma. JOURNAL OF CRYSTAL GROWTH. 2000. 209. 2-3. 406-409

書籍 (1件)：

学位 (1件)：

経歴 (6件)：

全件表示

委員歴 (3件)：

所属学会 (5件)：

SAS , 先端科学技術協会 , 応用物理学会 , 応用物理 , 電子情報通信

※　J-GLOBALの研究者情報は、researchmapの登録情報に基づき表示しています。登録・更新については、こちらをご覧ください。

白石 正