研究者
J-GLOBAL ID：200901005838624804   更新日: 2024年04月10日

中澤 日出樹

ナカザワ ヒデキ | Nakazawa Hideki
所属機関・部署：
弘前大学 大学院理工学研究科

弘前大学 大学院理工学研究科 について


職名： 教授
ホームページURL (1件)： https://hue2.jm.hirosaki-u.ac.jp/view?u=596
研究分野 (5件)： 無機材料、物性 ,  電気電子材料工学 ,  薄膜、表面界面物性 ,  結晶工学 ,  応用物性
研究キーワード (3件)： 半導体工学 ,  薄膜工学 ,  Thin Film Engineering
競争的資金等の研究課題 (35件)：
  • 2024 - 2027 炭化ホウ素薄膜の光起電力効果発現機構の解明および新規耐環境性太陽電池への応用
  • 2023 - 2026 AI手法を駆使した繰り返し試作不要なパワー半導体構造設計技術の開発
  • 2022 - 2026 金属バッファ層上層状窒化ホウ素を用いたGaN系デバイス構造成長とその機械的転写
  • 2022 - 2024 鉄系材料加工を可能とする新規ダイヤモンドライクカーボンコーティングの開発
  • 2022 - 2024 シリコンおよび窒素添加による高耐熱性 ダイヤモンドライクカーボンの開発
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論文 (75件)：
  • Tatsuya Nishida, Masayoshi Sato, Yoshiharu Enta, Yushi Suzuki, Yasuyuki Kobayashi, Hideki Nakazawa. Photovoltaic and mechanical properties of boron carbide films prepared by magnetron sputtering. Japanese Journal of Applied Physics. 2024. 63. 1. 01SP38-1-01SP38-12
  • Yuya Sasaki, Hiroya Osanai, Yusuke Ohtani, Yuta Murono, Masayoshi Sato, Yasuyuki Kobayashi, Yoshiharu Enta, Yushi Suzuki, Hideki Nakazawa. Influence of hydrogen gas flow ratio on the properties of silicon- and nitrogen-doped diamond-like carbon films by plasma-enhanced chemical vapor deposition. Diamond and Related Materials. 2022. 123. 108878-1-108878-12
  • Hiroya Osanai, Kazuki Nakamura, Yuya Sasaki, Haruto Koriyama, Yasuyuki Kobayashi, Yoshiharu Enta, Yushi Suzuki, Maki Suemitsu, Hideki Nakazawa. Effects of annealing temperature on the mechanical, optical, and electrical properties of hydrogenated, nitrogen-doped diamond-like carbon films. Thin Solid Films. 2022. 745. 139100-1-139100-15
  • H. Nakazawa, K. Nakamura, H. Osanai, Y. Sasaki, H. Koriyama, Y. Kobayashi, Y. Enta, S. Suzuki, M. Suemitsu. Annealing effects on the properties of hydrogenated diamond-like carbon films doped with silicon and nitrogen. Diamond and Related Materials. 2022. 122. 108809-1-108809-12
  • K. Nakamura, H. Ohashi, Y. Enta, Y. Kobayashi, Y. Suzuki, M. Suemitsu, H. Nakazawa. Effects of silicon doping on the chemical bonding states and properties of nitrogen-doped diamond-like carbon films by plasma-enhanced chemical vapor deposition. Thin Solid Films. 2021. 736. 138923-1-138923-11
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MISC (46件)：
  • 山崎雄也, 鈴木裕史, 小林康之, 中澤日出樹. SiおよびN添加ダイヤモンドライクカーボン膜へのO添加の効果. 電子情報通信学会技術研究報告 = IEICE technical report : 信学技報. 2024. 123. 35. 38-41
  • 山崎雄也, 佐々木祐弥, 中澤日出樹. SiおよびN添加ダイヤモンドライクカーボン膜の機械的特性および耐熱性. 電子情報通信学会技術研究報告 = IEICE technical report : 信学技報. 2023. 123. 230. 33-36
  • 齋藤遼佑, 奈良友奎, 葛西大希, 郡山春人, 遠田義晴, 中澤日出樹. 3 ̊オフ角Si(110)基板上へのSiC/AlN多層構造の作製およびグラフェンの形成. 電子情報通信学会技術研究報告 = IEICE technical report : 信学技報. 2023. 123. 142. 29-32
  • 西田竜也, 佐藤聖能, 小林康之, 遠田義晴, 中澤日出樹. 水素ガスを用いたマグネトロンスパッタ法による炭化ホウ素薄膜の光起電力特性. 電子情報通信学会技術研究報告 = IEICE technical report : 信学技報. 2023. 122. 392. 35-38
  • 西田竜也, 谷口 颯, 佐藤聖能, 小林康之, 遠田義晴, 鈴木裕史, 吹留博一, 中澤日出樹. マグネトロンスパッタ法による炭化ホウ素膜特性への水素ガスの効果. 電子情報通信学会技術研究報告 = IEICE technical report : 信学技報. 2022. 122. 147. 14-17
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特許 (3件)：
書籍 (2件)：
  • 半導体材料としてのダイヤモンドライクカーボン(DLC)(材料の科学と工学)
    一般社団法人 日本材料科学会 2022
  • 気泡・ボイドの発生メカニズムと未然防止・除去技術
    2014
講演・口頭発表等 (201件)：
  • SiおよびN添加ダイヤモンドライクカーボン膜へのO添加の効果
    (電子情報通信学会電子部品・材料研究会 2024)
  • マグネトロンスパッタ法による炭化ホウ素薄膜特性へのポストアニールの効果
    (応用物理学会東北支部第78回学術講演会 2023)
  • ガラス基板上h BN バッファ層を用いたGaN 薄膜のMBE 成長
    (応用物理学会東北支部第78回学術講演会 2023)
  • SiおよびN添加ダイヤモンドライクカーボン膜の機械的特性および耐熱性
    (電子情報通信学会電子部品・材料研究会 2023)
  • 3 ̊オフ角Si(110)基板上へのSiC/AlN多層構造の作製およびグラフェンの形成
    (電子情報通信学会電子部品・材料研究会 2023)
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Works (2件)：
  • 医療機器用樹脂部品への柔軟性 DLCコーティング
    2003 -
  • Flexible DLC Coatings on resinous Parts for Applications to Medical Instruments
    2003 -
学歴 (3件)：
  • 1996 - 1999 東北大学 大学院工学研究科博士課程後期3年の課程 電子工学専攻
  • 1994 - 1996 東北大学 大学院工学研究科博士課程前期2年の課程 電子工学専攻
  • 1990 - 1994 東北大学 工学部 電子工学科
学位 (2件)：
  • 博士(工学) (東北大学)
  • 修士(工学) (東北大学)
委員歴 (8件)：
  • 2023/06 - 現在 電子情報通信学会 電子部品・材料研究専門委員会 委員長
  • 2014/04 - 現在 応用物理学会 東北支部 企画運営委員
  • 2013/04 - 現在 日本表面科学会/日本表面真空学会(2018年4月~)東北・北海道支部 幹事
  • 2021/06 - 2023/06 電子情報通信学会 電子部品・材料研究専門委員会 副委員長
  • 2019/06 - 2021/06 電子情報通信学会 電子部品・材料研究専門委員会 幹事
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受賞 (2件)：
  • 2018/12 - 応用物理学会東北支部特別賞
  • 2011/12 - 日本表面科学会論文賞
所属学会 (4件)：
ニューダイヤモンドフォーラム ,  電子情報通信学会 ,  日本表面真空学会 ,  応用物理学会
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