研究者
J-GLOBAL ID:200901007245073464
更新日: 2024年01月17日
高橋 直行
タカハシ ナオユキ | Takahashi Naoyuki
所属機関・部署:
旧所属 静岡大学 工学部 物質工学科
旧所属 静岡大学 工学部 物質工学科 について
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職名:
助教授
ホームページURL (1件):
http://homepage3.nifty.com/nakamura_takahashi/
研究分野 (3件):
無機材料、物性
, 電気電子材料工学
, 機能物性化学
研究キーワード (1件):
薄膜材料 新機能材料 大気圧気相成長 金属窒化物薄膜 水晶薄膜 金属酸化物薄膜 大気圧原子層エピタキシー 薄膜 新機能材料
競争的資金等の研究課題 (10件):
大気圧下でのナノ薄膜の作製プロセスに関する研究
新金属窒素物の材料開発
大気圧下での水晶薄膜の作製に関する研究
酸化物薄膜の原子層エピタキシャル成長に関する研究
金属窒化物の気相成長に関する研究
The research on the growth of nano film at atnosphe pressure
The research on the preparation of New metal nitride
The research on the preparation of quartz thin at atmospheric pressure
The research on atomic layer epitaxy of the oxide thin films.
The study on vapor phase growth of the matal nitride semiconductor
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MISC (197件):
Kikurou Takemoto, Naoyuki Takahashi, Takato Nakamura. High growth rate deposition of oriented InN pillar crystals. Solid State Communications. 2005. 134. 9. 617-620
K Takemoto, N Takahashi, T Nakamura. High growth rate deposition of oriented InN pillar crystals. SOLID STATE COMMUNICATIONS. 2005. 134. 9. 617-620
T Takeyama, N Takahashi, T Nakamura, S Itoh. Bi2O3 rods deposited under atmospheric pressure by means of halide CVD on c-sapphire. SOLID STATE COMMUNICATIONS. 2005. 133. 12. 771-774
T Takeyama, N Takahashi, T Nakamura, S Itoh. Bi2O3 rods deposited under atmospheric pressure by means of halide CVD on c-sapphire. SOLID STATE COMMUNICATIONS. 2005. 133. 12. 771-774
Nano-crystalline quartz prepared by chemical vapour deposition under atmospheric pressure. ELECTROCHEMICAL AND SOLID STATE LETTERS. 2005. 8. C72-73
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特許 (13件):
水晶結晶薄膜の製造方法
γ・Fe2O3系脱水素触媒及びその製造法
半導体結晶成長方法
酸化亜鉛薄膜およびその製造方法
窒化鉄薄膜及びその製造方法
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書籍 (1件):
酸化鉄薄膜の触媒特性
アイピーシー 1994
Works (6件):
FeN薄膜に関する研究
2001 -
金属窒化物薄膜に関する研究
2001 -
The study on Growth of FeN thin films
2001 -
The study of the meeal nitride thin films
2001 -
水晶薄膜に作製に関する研究
1998 -
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学歴 (4件):
- 1992 豊橋技術科学大学 工学研究科 材料システム工学
- 1992 豊橋技術科学大学
- 1987 豊橋技術科学大学 工学部 物質工学科
- 1987 豊橋技術科学大学
学位 (1件):
博士(工学)
経歴 (2件):
平成10年 静岡大学・工学部・助教授
平成4年 東京農工大学・工学部・助手
委員歴 (1件):
2000 - 表面科学会 中部支部幹事
受賞 (2件):
2003 - 東海化学工業会賞
2000 - 高柳研究奨励賞
所属学会 (12件):
米国電気化学会
, 米国化学会
, 表面科学会
, 英国化学会
, 化学ソフトウェア学会
, 触媒学会
, 日本化学会
, 日本セラミックス協会
, 応用物理学会
, Electrochemical Society(ECS)
, American Chemical Society(ACS)
, The Royal Society of Chemistry(RSC)
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