研究者
J-GLOBAL ID:200901011503227983   更新日: 2024年02月14日

有光 晃二

アリミツ コウジ | Arimitsu Koji
所属機関・部署:
職名: 助教授・准教授
ホームページURL (1件): http://www.rs.noda.tus.ac.jp/ari-lab/
研究分野 (2件): 高分子化学 ,  有機機能材料
研究キーワード (1件): フォトポリマー、光硬化、酸・塩基増殖剤、光開始剤
競争的資金等の研究課題 (2件):
  • 光酸(光塩基)発生剤の開発、酸(塩基)増殖剤の開発、光反応性高分子の開発
  • Development of photo-acid and -base generators, Development of acid and base amplifiers, Development of photoreactive materials with high sensitivity
論文 (172件):
  • Yoshiki Shirai, Ayano Sasaki, Sayako Sato, Daisuke Aoki, Koji Arimitsu. Fabrication of an Organic-Inorganic Hybrid Hard Coat with a Gradient Structure Controlled by Photoirradiation. ACS Applied Materials & Interfaces. 2023. 15. 28563-28569
  • Daisuke Aoki, Kento Yasuda, Koji Arimitsu. Toughening Ionic Polymer Using Bulky Alkylammonium Counterions and Comb Architecture. ACS Macro Letters. 2023. 12. 462-467
  • 有光晃二、青木大亮. 光および熱潜在性硬化剤の最近の進歩. 塗装工学. 2023. 58. 2. 47-60
  • Ataru Daimon, Daisuke Aoki, Koji Arimitsu. UV curing of shadow parts at room temperature by photoinduced redox-initiated radical polymerization. Proc. RadTech Asia 2022. 2022
  • Kenyu Sugita, Daisuke Aoki, Koji Arimitsu. Synthesis of polysilane modified with glycidyl methacrylate and fabrication of negative-tone photopatterns. Proc. RadTech Asia 2022. 2022
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MISC (39件):
  • 大門能、青木大亮、有光晃二. 光誘起レドックス開始ラジカル重合を用いた室温条件下での影部UV硬化. RadTech Japan News Letter. 2023. 128. 3-7
  • 有光晃二、青木大亮. 酸・塩基増殖反応を用いた高感度フォトレジスト材料. 機能材料. 2021. 41. 12. 12-19
  • 有光晃二. RadTech Asia 2021への期待. RadTech Japan News Letter. 2020. 117. 2-2
  • 有光晃二. 光硬化技術の最近の進歩. プラスチックスエージ. 2019. 65. 85-92
  • 有光晃二. 技術交流をキーワードとした新規事業推進本部の活動計画. RadTech Japan News Letter. 2019. 112. 2-2
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特許 (149件):
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書籍 (55件):
  • 高分子材料の辞典
    朝倉書店 2022 ISBN:9784254252729
  • 「酸・塩基増殖反応を用いた高感度フォトレジスト材料」、フォトレジストの最先端技術
    シーエムシー出版 2022 ISBN:9784781316796
  • 「エポキシ樹脂の光硬化~基礎と光反応の増幅~」、エポキシ樹脂の設計技術と市場2022
    シーエムシー出版 2022 ISBN:9784781316697
  • 「コーティングにおける硬化反応の基礎」、機能性コーティングの最新動向
    シーエムシー出版 2021 ISBN:9784781316239
  • 「第3章 第2節 分子増幅を駆使した影部分のUV硬化」、UV硬化樹脂の開発動向と応用展開
    サイエンス&テクノロジー株式会社 2021 ISBN:9784864282635
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講演・口頭発表等 (455件):
  • トピックス 光クリックケミストリー ~2022年ノーベル化学賞「クリックケミストリー」の展開~
    (第33回フォトポリマー講習会 2023)
  • エポキシ樹脂の低温硬化
    (エポキシ樹脂技術協会 第46回公開講座 2023)
  • 高感度なUV硬化システムの構築~光反応とその増幅~
    (第61回日本接着学会年次大会 2023)
  • 光塩基発生剤を用いたエピスルフィドのアニオンUV硬化とUV接着への応用
    (第61回日本接着学会年次大会 2023)
  • イオン型光塩基発生剤を用いたエポキシ/チオール混合樹脂のアニオンUV接着特性
    (第61回日本接着学会年次大会 2023)
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学歴 (1件):
  • - 1997 東京工業大学 総合理工学研究科 電子化学専攻
学位 (1件):
  • 博士(工学) (東京工業大学)
委員歴 (16件):
  • 2017/09 - 2020/08 一般社団法人ラドテック研究会 学会副会長
  • 2016/06/21 - 2020/05 ASTEC2019 第14回先端表面技術展・会議 実行委員会委員
  • 2018/04 - 2020/03 公益社団法人 高分子学会 精密ネットワークポリマー研究会運営委員長
  • 2017/04 - 2020/03 公益社団法人 高分子学会 印刷・情報・電子用材料研究会運営委員
  • 2016/04 - 2018/03 公益社団法人 高分子学会 精密ネットワークポリマー研究会運営委員
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受賞 (9件):
  • 2020/04/30 - Top Downloaded Paper 2018-2019 に選出
  • 2017/04/22 - 平成28年度 材料技術研究協会 論文賞
  • 2014/04/26 - 平成25年度 材料技術研究協会 論文賞
  • 2012/12/08 - 2012年度 材料技術研究協会討論会ゴールドポスター賞
  • 2011/12/03 - 2011年度 材料技術研究協会討論会ゴールドポスター賞
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所属学会 (9件):
色材協会 ,  社団法人 日本化学会 ,  日本化学会 ,  公益社団法人 高分子学会 ,  一般社団法人ラドテック研究会 ,  ラドテック研究会 ,  エポキシ樹脂技術協会 ,  RadTech Japan ,  ASTEC2019 第14回先端表面技術展・会議
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