研究者
J-GLOBAL ID:200901016325968690
更新日: 2022年08月03日
松田 五明
マツダ イツアキ | Matsuda Itsuaki
所属機関・部署:
早稲田大学 理工学術院
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職名:
客員教授(専任扱い)
研究分野 (1件):
基礎物理化学
研究キーワード (8件):
添加剤
, 電気めっき
, 表面・界面
, 電気化学
, additives
, electroplating
, surface/interface
, electrochemistry
競争的資金等の研究課題 (6件):
めっき法による超高密度実装回路の作成技術開発
SAM(単分子膜)を用いた密着性の良いめっき方法の開発
ULSI内銅配線用無電解銅めっきのシミュレーション解析
Development of high density electric circuit for mounting electric devices, using electroplating
Development of plating film strongly adherent to substrate, using SAM(self assembled monolayer)
Simulation for electrodeposition of Cu for electrocirsuits in ULSI
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MISC (4件):
Simulations on the Optimum Conditions for Propargyl Alcohol to Function as a Shape Control Agent in the Process of Nickel Electrodeposition onto a Micropatterned Substrate. 電気化学. 2003. 71;11
淺 富士夫, 河南 賢, 杉本 怜子, 横島 時彦, 門間 聰之, 松田 五明, 本間 英夫, 逢坂 哲彌. 「電析ニッケルマイクロプローブの形状制御に及ぼす添加剤構造の影響」. 表面技術. 2003. 54;4. 4. 300-305
松田 五明, 淺 富士夫, 河南 賢, 小林 洋介, 横島 時彦, 逢坂 哲彌. 「ニッケル電析抑制機能に及ぼすプロパギルアルコールの拡散速度,被覆率,および還元速度の影響」. 表面技術. 2002. 53;11. 11. 744-750
松田 五明, 淺 富士夫, 逢坂 哲彌. 「マイクロパターン上へのニッケルめっきにおけるプロパギルアルコールの形状制御機能のシミュレーション」. 表面技術. 2002. 53;11. 11. 751-758
学位 (1件):
工学博士 (早稲田大学)
所属学会 (4件):
Electrochemical Society
, 表面技術協会
, 電気化学会
, 日本化学会
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