- 2000 - 現在 ダイヤモンド単結晶薄膜の成長
- 1987 - 現在 高温シリコン表面の結晶構造のその場観察
- 1982 - 現在 シリコン表面上での化学反応の素過程:結晶成長,エッチング,酸化
- 2019 - 2023 非熱平衡状態における表面反応速度論:表面計測法を用いた歪みと速度の同時観察
- 2016 - 2018 ダイヤモンド表面を原子レベルに平坦化するイオンアシスト表面拡散研磨法の開発
- 2015 - 2018 走査型マイクロインジェクション顕微鏡の要素技術開発
- 2013 - 2016 RHEED入射電子波動場による励起-オージェ電子と表面プラズモン-
- 2012 - 2014 原子レベルで平坦な表面を達成する大面積基板対応プラズマ研磨プロセスの検証
- 2004 - 2005 格子歪み制御されたSi表面での熱酸化反応ダイナミクスの研究
- 2000 - 2001 Si熱酸化過程のRHEED-AES-CL法による「その場」観察
- 1998 - 2000 高分解能X線光電子回折によるヘテロ・エピタキシー成長表面界面構造解析法の確立
- 1995 - 1996 マイクロ電子ビームと2次元表示阻止型電子分析器を用いた局所表面解析装置の開発
- 1991 - 1993 放射光励起ガスソースCVDによる高誘電体薄膜の低温形成
- 1988 - 1990 シンクロトロン放射光励起表面光化学反応による単結晶薄膜の気相成長
- 1985 - 1987 X線光電子回析法によるGaAsのオーミック接触形成機構の研究
- 1984 - 1984 X線光電子回折法による GaAs のオーミック接触形成機構の研究
- 1983 - 1983 X線光電子回折法による Au-Ge/GaAs のオーミック接触形成過程の研究
全件表示