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J-GLOBAL ID：201802215516866689   整理番号：18A0633465

極薄酸化Ni(111)表面の還元過程:真空およびH₂中加熱の比較

著者 (6件)： 多賀稜 (東北大 多元物質科研) ,  小川修一 (東北大 多元物質科研) ,  尾崎司 (東北大 多元物質科研) ,  吉田光 (原子力発電技術機構) ,  吉越章隆 (原子力発電技術機構) ,  高桑雄二 (東北大 多元物質科研)
資料名： 応用物理学会春季学術講演会講演予稿集(CD-ROM)  (Extended Abstracts. JSAP Spring Meeting (CD-ROM))
巻： 65th  ページ： ROMBUNNO.19p-F214-3  発行年： 2018年03月05日 
JST資料番号： Y0054B  ISSN： 2436-7613  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *酸化ニッケル ,  *超薄膜 ,  *表面 ,  *還元 ,  気体 ,  *固体表面
準シソーラス用語： *還元反応 ,  雰囲気ガス

分類 (2件)： 固体の表面構造一般  (BK15010E) ,  反応操作(単位反応)  (XE01040I)

タイトルに関連する用語 (6件)： 酸化 ,  Ni ,  還元 ,  過程 ,  真空 ,  H2