垣内弘章

カキウチヒロアキ | Kakiuchi Hiroaki

所属機関・部署：
職名：准教授
ホームページURL (1件)： http://www.prec.eng.osaka-u.ac.jp

研究分野 (2件)：電気電子材料工学 , 薄膜、表面界面物性

競争的資金等の研究課題 (42件)：

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論文 (214件)：

Toshimitsu Nomura, Hiroaki Kakiuchi, Hiromasa Ohmi. High-rate etching of silicon oxide and nitride using narrow-gap high-pressure (3.3 kPa) hydrogen plasma. Journal of Physics D: Applied Physics. 2024. 57. 27. 275204-275204
Toshimitsu Nomura, Hiroaki Kakiuchi, Hiromasa Ohmi. Role of O₂ and N₂ addition on low-reflectance Si surface formation using moderate-pressure (3.3 kPa) hydrogen plasma. Physica Scripta. 2023. 98. 11. 115609-115609
Toshimitsu Nomura, Hiroaki Kakiuchi, Hiromasa Ohmi. Shallow defect layer formation as Cu gettering layer of ultra-thin Si chips using moderate-pressure (3.3 kPa) hydrogen plasma. Journal of Applied Physics. 2023. 133. 16
Hiroaki Kakiuchi, Hiromasa Ohmi, Seiya Takeda, Kiyoshi Yasutake. Improvement of deposition characteristics of silicon oxide layers using argon-based atmospheric-pressure very high-frequency plasma. Journal of Applied Physics. 2022. 132. 10. 103302-103302
Toshimitsu Nomura, Kenta Kimoto, Hiroaki Kakiuchi, Kiyoshi Yasutake, Hiromasa Ohmi. Si nanocone structure fabricated by a relatively high-pressure hydrogen plasma in the range of 3.3-27 kPa. Journal of Vacuum Science & Technology B. 2022. 40. 3. 032801-032801

MISC (140件)：

垣内弘章, 大参宏昌, 安武潔. 大気圧VHFプラズマを用いたSiの低温・高速成膜技術と薄膜トランジスタへの応用 (特集 FPDの進化を担う薄膜技術). ディスプレイ. 2013. 19. 11. 23-29
垣内弘章, 大参宏昌, 安武潔. 大気圧プラズマCVDによるSi高速成膜と太陽電池への応用 (特集大気圧プラズマと注目の応用). オプトロニクス. 2012. 31. 6. 88-93
垣内弘章, 大参宏昌, 安武潔. 大気圧プラズマを用いた低温・高速成膜技術 (特集プラズマプロセスの応用技術). ケミカルエンジニヤリング. 2010. 55. 12. 889-895
Hiromasa Ohmi, Kazuya Kishimoto, Hiroaki Kakiuchi, Kiyoshi Yasutake. PFC-free dry etching method for Si using narrow-gap VHF plasma at subatmospheric pressure. J. Electrochem. Soc.,. 2010. Vol. 157, No.2, D85
PFC-free dry etching method for Si using narrow-gap VHF plasma at subatmospheric pressure. J. Electrochem. Soc.,. 2010. Vol. 157, No.2, D85

特許 (16件)：

書籍 (16件)：

大気圧プラズマ技術と成膜応用(第25回プラズマエレクトロニクス講習会 ~プラズマプロセスの基礎とその応用・制御技術~ テキスト)
公益社団法人応用物理学会プラズマエレクトロニクス分科会 2014
大気圧VHFプラズマを用いたSiの低温・高速成膜技術と薄膜トランジスタへの応用「月間ディスプレイ」
(株)テクノタイムズ社 2013
大気圧プラズマCVDによるSi高速成膜と太陽電池への応用 OPTRONICS, 2012, No. 6, 88-93. (共著)
株式会社オプトロニクス社 2012
大気圧プラズマCVDによるシリコン薄膜の形成「改訂版大気圧プラズマの生成制御と応用技術」 pp.197-219, 2012 (共著)
サイエンス&テクノロジー株式会社 2012 ISBN:9784864280396
大気圧プラズマの技術とプロセス開発
シーエムシー出版 2011 ISBN:9784781304076

Works (3件)：

学歴 (5件)：

学位 (2件)：

経歴 (10件)：

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受賞 (5件)：

2015/11 - Taiwan Association for Coatings and Thin Films Technology Poster award of excellence
2004/03 - 社団法人精密工学会精密工学会沼田記念論文賞
2003/10 - 精密工学会 2003年度精密工学会秋季大会学術講演会ベストオーガナイザー賞「機能性薄膜」
1994 - 1994年度精密工学会関西支部講演論文賞
1992/08 - 精密工学会精密工学会関西支部講演論文賞

所属学会 (2件)：

応用物理学会 , 精密工学会

※　J-GLOBALの研究者情報は、researchmapの登録情報に基づき表示しています。登録・更新については、こちらをご覧ください。

垣内 弘章