研究者
J-GLOBAL ID:200901028006942571   更新日: 2020年09月02日

垣内 弘章

カキウチ ヒロアキ | Kakiuchi Hiroaki
所属機関・部署:
職名: 准教授
研究分野 (2件): 電気電子材料工学 ,  薄膜、表面界面物性
競争的資金等の研究課題 (4件):
  • プラズマの計測と制御
  • 機能薄膜の低温かつ高速成膜
  • Diagnostics and controle of plasma
  • Low temperature and high-rate deposition of functional materials
論文 (80件):
  • Hiroaki Kakiuchi, Hiromasa Ohmi, Kiyoshi Yasutake. Pulsed very high-frequency plasma-enhanced chemical vapor deposition of silicon films for low-temperature (120 °C) thin film transistors. Journal of Physics D: Applied Physics. 2020. 53. 41. 415201-415201
  • Hiroaki Kakiuchi, Hiromasa Ohmi, Kiyoshi Yasutake. Highly efficient formation process for functional silicon oxide layers at low temperatures (≤ 120 °C) using very high-frequency plasma under atmospheric pressure. Precision Engineering. 2019. 60. 265-273
  • Ohmi Hiromasa, Sato Jumpei, Shirasu Yoshiki, Hirano Tatsuya, Kakiuchi Hiroaki, Yasutake Kiyoshi. Significant Improvement of Copper Dry Etching Property of a High-Pressure Hydrogen-Based Plasma by Nitrogen Gas Addition. ACS OMEGA. 2019. 4. 2. 4360-4366
  • Kakiuchi Hiroaki, Ohmi Hiromasa, Yasutake Kiyoshi. Controllability of structural and electrical properties of silicon films grown in atmospheric-pressure very high-frequency plasma. JOURNAL OF PHYSICS D-APPLIED PHYSICS. 2018. 51. 35
  • Takei Norihisa, Shinoda Fumiya, Kakiuchi Hiroaki, Yasutake Kiyoshi, Ohmi Hiromasa. On-site SiH4 generator using hydrogen plasma generated in slit-type narrow gap. JOURNAL OF PHYSICS D-APPLIED PHYSICS. 2018. 51. 24
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MISC (103件):
書籍 (3件):
  • High-rate deposition of amorphous silicon films by atmospheric pressure plasma chemical vapor deposition
    Crystal Growth Technology, Edited by H. J. Scheel and T. Fukuda, John Wiley & Sons Ltd 2003
  • Plasma CVM (Chemical Vapor Machining) - A Chemical Machining Method with Equal Performance to Conventional Mechanical Methods from the sence of Removal Rates and Spatial Resolutions
    Proceedings of the 7th International Precision Engineering Seminar. 1993
  • Low Temperature Growth of Polycrystalline Silicon Films by Plasma Chemical Vapor Deposition under Higher Pressure than Atmospheric Pressure
    Proceedings of the 7th International Precision Engineering Seminar. 1993
Works (4件):
  • グローバルCOE 高機能化原子制御製造プロセス教育研究拠点
    2008 -
  • Center of Excellence for Atomically Controlled Fabrication Technology
    2008 -
  • 原子論的生産技術の創出拠点
    2004 -
  • 原子論的生産技術の創出拠点
    2004 -
学歴 (4件):
  • - 1991 大阪大学 精密工学専攻
  • - 1991 大阪大学
  • - 1989 大阪大学 精密工学科
  • - 1989 大阪大学
学位 (2件):
  • 修士(工学) (大阪大学)
  • 博士(工学) (大阪大学)
経歴 (4件):
  • 1991 - 2001 大阪大学 助手
  • 1991 - 2001 Osaka University, Research Associate
  • 2001 - - 大阪大学 助教授
  • 2001 - - Osaka University, Associate Proffesor
受賞 (1件):
  • 1994 - 1994年度精密工学会 関西支部講演論文賞
所属学会 (2件):
応用物理学会 ,  精密工学会
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