研究者
J-GLOBAL ID:200901028006942571   更新日: 2022年06月30日

垣内 弘章

カキウチ ヒロアキ | Kakiuchi Hiroaki
所属機関・部署:
職名: 准教授
ホームページURL (1件): http://www.prec.eng.osaka-u.ac.jp
研究分野 (2件): 電気電子材料工学 ,  薄膜、表面界面物性
競争的資金等の研究課題 (33件):
  • 2010 - 超薄型結晶Si太陽電池の製造を可能とする大気圧プラズマ高速成膜技術の開発
  • 2010 - 大気圧プラズマを用いた機能性界面創生によるSi表面パッシベーション技術の開発
  • 2010 - 大気圧プラズマ科学に基づく新たなSi材料創成プロセスの開発
  • 2009 - 大気圧プラズマ科学に基づく新たなSi材料創成プロセスの開発
  • 2009 - 大気圧プラズマを用いた機能性界面創生によるSi表面パッシベーション技術の開発
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論文 (211件):
  • Kazushi Yoshida, Hiromasa Ohmi, Kiyoshi Yasutake, Hiroaki Kakiuchi. Formation of indium nitride nanostructures by atmospheric pressure plasma nitridation of molten indium. Journal of Applied Physics. 2021. 130. 6. 063301-063301
  • Hiroaki Kakiuchi, Hiromasa Ohmi, Kiyoshi Yasutake. Gas-phase kinetics in atmospheric-pressure plasma-enhanced chemical vapor deposition of silicon films. Journal of Applied Physics. 2021. 130. 5. 053307-053307
  • Kouji Inagaki, Yoshitada Morikawa, Hiromasa Ohmi, Kiyoshi Yasutake, Hiroaki Kakiuchi. Diffusion of excessively adsorbed hydrogen atoms on hydrogen terminated Si(100)(2×1) surface. AIP Advances. 2021. 11. 8. 085318-085318
  • Kiyoshi Yasutake, Kazushi Yoshida, Hiromasa Ohmi, Hiroaki Kakiuchi. Plasma parameters in very high frequency argon plasmas mixed with nitrogen at atmospheric pressure. Journal of Applied Physics. 2021. 129. 17. 173302-173302
  • Daiki Iino, Satoshi Tanida, Kazuaki Kurihara, Hiroyuki Fukumizu, Itsuko Sakai, Junko Abe, Jota Fukuhara, Rei Tanaka, Tomoyuki Tanaka, Jou Kikura, et al. Reactive ion etching process of SiO2 film using on-site synthesized C2F4 from CF4. Japanese Journal of Applied Physics. 2021. 60. 5. 050904-050904
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MISC (107件):
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特許 (16件):
  • 大気圧水素プラズマを用いた膜製造方法、精製膜製造方法及び装置
  • プラズマ処理装置及びプラズマ処理方法,ガス発生装置及びガス発生方法, 並びに,フッ素含有高分子廃棄物処理方法
  • 透明導電膜の成膜装置および形成方法
  • エピタキシャルSi膜の製造方法およびプラズマ処理装置
  • 成膜装置
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書籍 (16件):
  • 大気圧プラズマ技術と成膜応用(第25回プラズマエレクトロニクス講習会 ~プラズマプロセスの基礎とその応用・制御技術~ テキスト)
    公益社団法人 応用物理学会 プラズマエレクトロニクス分科会 2014
  • 大気圧VHFプラズマを用いたSiの低温・高速成膜技術と薄膜トランジスタへの応用 「月間ディスプレイ」
    (株)テクノタイムズ社 2013
  • 大気圧プラズマCVDによるSi高速成膜と太陽電池への応用 OPTRONICS, 2012, No. 6, 88-93. (共著)
    株式会社オプトロニクス社 2012
  • 大気圧プラズマCVDによるシリコン薄膜の形成 「改訂版 大気圧プラズマの生成制御と応用技術」 pp.197-219, 2012 (共著)
    サイエンス&テクノロジー株式会社 2012 ISBN:9784864280396
  • 大気圧プラズマの技術とプロセス開発
    シーエムシー出版 2011 ISBN:9784781304076
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Works (4件):
  • グローバルCOE 高機能化原子制御製造プロセス教育研究拠点
    2008 -
  • Center of Excellence for Atomically Controlled Fabrication Technology
    2008 -
  • 原子論的生産技術の創出拠点
    2004 -
  • 原子論的生産技術の創出拠点
    2004 -
学歴 (5件):
  • - 1991 大阪大学 精密工学専攻
  • - 1991 大阪大学 精密工学専攻
  • - 1991 大阪大学
  • - 1989 大阪大学 精密工学科
  • - 1989 大阪大学
学位 (2件):
  • 修士(工学) (大阪大学)
  • 博士(工学) (大阪大学)
経歴 (10件):
  • 2020/04/01 - 現在 大阪大学 工学研究科 物理学系専攻 准教授
  • 2001/08 - 現在 大阪大学大学院工学研究科助教授
  • 1998/04 - 現在 大阪大学大学院工学研究科助手
  • 1991/04 - 現在 大阪大学工学部助手
  • 2007/04/01 - 2020/03/31 大阪大学 工学研究科 精密科学・応用物理学専攻 准教授
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受賞 (5件):
  • 2015/11 - Taiwan Association for Coatings and Thin Films Technology Poster award of excellence
  • 2004/03 - 社団法人精密工学会 精密工学会沼田記念論文賞
  • 2003/10 - 精密工学会 2003年度精密工学会秋季大会学術講演会ベストオーガナイザー賞「機能性薄膜」
  • 1994 - 1994年度精密工学会 関西支部講演論文賞
  • 1992/08 - 精密工学会 精密工学会関西支部講演論文賞
所属学会 (2件):
応用物理学会 ,  精密工学会
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