研究者
J-GLOBAL ID:200901035981656560   更新日: 2024年04月17日

二瓶 好正

ニヘイ ヨシマサ | Nihei Yoshimasa
ホームページURL (1件): http://www.rs.noda.tus.ac.jp/~ci-nihei/index.html
研究分野 (1件): 分析化学
研究キーワード (2件): マイクロビームアナリシス ,  Micro-beam analysis
競争的資金等の研究課題 (2件):
  • マイクロビームアナリシス
  • Microbeam Analysis
MISC (278件):
  • A. Suzuki, A. Hashimoto, M. Nojima, M. Owari, Y. Nihei. Holographic imaging of TiO2(110) strucure by differential photoelectron holography. JSPS 141 Committee Activity Report. 2008. 264-268
  • A. Hashimoto, A. Suzuki, Y. Kisaka, S. Miyasaka, M. Nojima, M. Owari, Y. Nihei. Differential photoelectron holography of Cu(100) surface by using of laboratory level X-ray sources. JSPS 141 Committee Activity Report. 2008. 261-263
  • S. Miyasaka, K. Amano, M. Nojima, M. Owari, Y. Nihei. Surface structual analysis of VOX/TiO2 by X-ray photoelectron diffraction. JSPS 141 Committee Activity Report. 2008. 257-260
  • Y. Kisaka, A. Hashimoto, A. Suzuki, S. Miyasaka, M. Nojima, M. Owari, Y. Nihei. Study on dynamics of surface structure by rapid and time-resolved X-ray photoelectron diffraction. JSPS 141 Committee Activity Reprt. 2008. 252-256
  • 野島 雅, 藤井麻紀子, 石崎泰裕, 尾張真則, 二瓶好正. Shave-off深さ方向分析法におけるメモリー効果の低減. 分析化学. 2008. 57. 1. 67-69
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書籍 (38件):
  • 先端計測分析機器開発が何故重要か?
    (財)化学技術戦略推進機構JCII NEWS, 第74号 Vol.19, No.1 2004
  • 基本分析化学
    朝倉書店 2004
  • 日本化学会に期待すること
    化学と工業 第57巻第1号 2004
  • 未来に向けての前進計画
    ぶんせき 2004年第1号 2004
  • 基本分析化学
    朝倉書店 2004
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講演・口頭発表等 (27件):
  • イノベーション創出のための先端分析機器開発
    (日本化学会第88春季年会 2008)
  • Differential photoelectron holography of Cu(100) surface by using of laboratory level X-ray sources
    (The 6th international symposium on atomic level characterizations for new materials and devices '07 2007)
  • Holographic imaging of TiO2(110) strucure by differential photoelectron holography
    (The 6th international symposium on atomic level characterizations for newmaterials and devices '07 2007)
  • Surface structual analysis of VOX/TiO2 by X-ray photoelectron diffraction
    (The 6th international symposium on atomic level characterizations for new materials and devices '07 2007)
  • Study on dynamics of surface structure by rapid and time-resolved X-ray photoelectron diffraction
    (The 6th international symposium on atomic level characterizations for new materials and devices '07 2007)
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学歴 (4件):
  • - 1963 東京大学 工学部 工業化学科
  • - 1963 東京大学
  • 東京大学 工学系研究科 工業化学
  • 東京大学
学位 (1件):
  • 工学博士 (東京大学)
経歴 (13件):
  • 2008 - 東京理科大学学長補佐
  • 2005 - 東京理科大学総合研究機構長
  • 2004 - 東京理科大学総合研究所所長
  • 2001 - 東京大学名誉教授
  • 2001 - 東京理科大学理工学部教授
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委員歴 (7件):
  • 2003 - 2004 社団法人 日本分析化学会 会長
  • 2002 - 2003 社団法人 日本分析化学会 次期会長
  • 2001 - 2002 社団法人 環境科学会 会長
  • 2000 - 2002 日本表面科学会 会長
  • 2000 - 2002 社団法人 環境科学会 会長
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受賞 (9件):
  • 2003 - 環境科学会学会賞
  • 2003 - 日本表面科学会学会賞
  • 2003 - Surface Science Society Award
  • 2000 - 日本表面科学会技術賞
  • 2000 - SSSJ Technique Award
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所属学会 (4件):
社団法人 日本分析化学会 ,  日本表面科学会 ,  社団法人 環境科学会 ,  日本学術会議
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