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J-GLOBAL ID：200902224088016430   整理番号：08A0066672

Shave-off深さ方向分析法におけるメモリー効果の低減

Reduction of Memory Effect in Shave-off Depth Profiling

著者 (9件)： 野島雅 (東京理大 総合研究機構) ,  野島雅 (東大 生産技研) ,  藤井麻樹子 (東京理大 理工) ,  藤井麻樹子 (東大 生産技研) ,  石崎泰裕 (東京理大 理工) ,  石崎泰裕 (東大 生産技研) ,  尾張真則 (東大 生産技研) ,  尾張真則 (東大 環境安全研究セ) ,  二瓶好正 (東京理大 総合研究機構)
資料名： 分析化学
巻： 57  号： 1  ページ： 67-69  発行年： 2008年01月05日 
JST資料番号： F0008A  ISSN： 0525-1931  CODEN： BNSKAK  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 二次イオン質量分析(SIMS)によるShave-off深さ方...

シソーラス用語： *二次イオン質量分析 ,...
準シソーラス用語： メモリー効果 ,...

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分類 (1件)： 質量分析  (CC03013N)

引用文献 (5件)：

• 1) H. N. Migeon, C. Le Pipec, J. J. Le Goux : SIMS V, 44, 155 (1986).
• 2) 野島 雅,神田雄介,戸井雅之,冨安文武乃進,坂本哲夫,尾張真則,二瓶好正 : 分析化学 (Bunseki Kagaku), 52, 179 (2003).
• 3) M. Nojima, A. Maekawa, T. Yamamoto, B. Tomiyasu, T. Sakamoto, M. Owari, Y. Nihei : Appl. Sur. Sci., 252, 7293 (2006).
• 4) M. Nojima, M. Toi, A. Maekawa, B. Tomiyasu, T. Sakamoto, M. Owari, Y. Nihei : Appl. Surf. Sci., 231-232, 930 (2004).
• 5) M. Nojima, T. Yamamoto, Y. Ishizaki, M. Owari, Y. Nihei : Nucl. Inst. Meth. Phy. Res. B, 258, 250 (2007).

タイトルに関連する用語 (3件)： 深さ方向 ,  分析法 ,  メモリー効果