研究者
J-GLOBAL ID:200901050693774786
更新日: 2024年01月17日
森永 均
モリナガ ヒトシ | Morinaga Hitoshi
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所属機関・部署:
株式会社フジミインコーポレーテッド 技術本部
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職名:
本部長
研究分野 (11件):
材料加工、組織制御
, 電気電子材料工学
, 薄膜、表面界面物性
, 電子デバイス、電子機器
, 無機・錯体化学
, 基礎物理化学
, ナノマイクロシステム
, ナノバイオサイエンス
, ナノ材料科学
, ナノ構造物理
, ナノ構造化学
研究キーワード (10件):
平坦化
, CMP
, 表面電気化学
, エッチング
, シリコン
, クリーン化
, 洗浄
, 研磨
, ウェットプロセス
, 半導体
競争的資金等の研究課題 (7件):
2006 - 電子デバイス用CMPスラリーの高性能化に関する研究
2006 - 超精密研磨機構の解明に関する研究
2005 - 半導体表面の原子オーダー平坦化技術に関する研究
2005 - 液中におけるシリコン表面化学反応のメカニズムに関する研究
2004 - 半導体ウェット洗浄プロセスの高性能化に関する研究
半導体・ディスプレイのウェットプロセス技術の研究
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MISC (63件):
Hitoshi Morinaga, Kenji Shimaoka, Tadahiro Ohmi. Surface Microroughness of Silicon in Wet Process and Its Minimization. Proc. International Symposium on Ultra Clean Processing of Silicon Surfaces 2006. 2006
H Morinaga, K Shimaoka, T Ohmi. Impact of light on the surface nanostructure of silicon. JOURNAL OF THE ELECTROCHEMICAL SOCIETY. 2006. 153. 7. G626-G631
Suppression of Surface Micro-Roughness of Silicon Wafer by Addition of Alcohol into Ultra Pure Water for Rinsing Process. Ecstransactions (Cleaning Technology in Semiconductor Device Manufacturing IX). 2005. 1. 3. 51-58
Effect of Oxygen Concentration in Cleaning Process on Silicon Surface. Ecstransactions (Cleaning Technology in Semiconductor Device Manufacturing IX). 2005. 1. 3. 75-81
Suppression of Surface Micro-Roughness of Silicon Wafer by Addition of Alcohol into Ultra Pure Water for Rinsing Process. Ecstransactions (Cleaning Technology in Semiconductor Device Manufacturing IX). 2005. 1. 3. 51-58
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書籍 (9件):
Scientific Wet Process Technology for Innovative LSI/FPD Manufacturing
Taylor and Francis / CRC Press 2006
Scientific Wet Process Technology for Innovative LSI/FPD Manufacturing
Taylor and Francis / CRC Press 2006
CMP技術体系
2005
’05 最新半導体プロセス技術
(株)プレスジャーナル 2004
最新の超精密加工・成形技術と部品化プロセス技術
(株)技術情報協会 2001
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学歴 (4件):
- 1995 東北大学 工学研究科 電子工学専攻
- 1995 東北大学
- 1986 東京理科大学 理工学部 工業化学科
- 1986 東京理科大学
学位 (1件):
博士(工学) (東北大学)
経歴 (5件):
2005 - 2007 東北大学 未来科学技術共同研究センター
2007 - - (株)フジミインコーポレーテッド 技術本部
1994 - 2004 三菱化学株式会社
1992 - 1994 東北大学 工学部 電子工学科(出向)
1986 - 1992 三菱化成(現・三菱化学)株式会社
委員歴 (1件):
2005 - 精密工学会「プラナリゼーションCMP委員会」 幹事
所属学会 (4件):
精密工学会「プラナリゼーションCMP委員会」
, 精密工学会 プラナリゼーションCMP委員会委員
, Electrochemical Society
, 応用物理学会
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