研究者
J-GLOBAL ID:200901070053284473
更新日: 2020年06月06日
北村 寿朗
キタムラ トシオ | Kitamura Toshio
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所属機関・部署:
独立行政法人産業技術総合研究所 パワーエレクトロニクス研究センター
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ホームページURL (1件):
http://www.aist.go.jp/RESEARCHERDB/cgi-bin/worker_detail.cgi?call=namae&rw_id=T01551371
競争的資金等の研究課題 (1件):
GaN,SiCワイドギャップ半導体の光学、構造評価(顕微Raman分光、PL測定、XRD等々)
MISC (6件):
T Kitamura, XQ Shen, M Sugiyama, H Nakanishi, M Shimizu, H Okumura. Generation of cubic phase in molecular-beam-epitaxy-grown hexagonal InGaN epilayers on InN. JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS PART 1-REGULAR PAPERS BRIEF COMMUNICATIONS & REVIEW PAPERS. 2006. 45. 1A. 57-60
K Jeganathan, T Kitamura, M Shimizu, H Okumura. High-quality growth of AlN epitaxial layer by plasma-assisted molecular-beam epitaxy. JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS PART 2-LETTERS. 2002. 41. 1AB. L28-L30
T Kitamura, Y Ishida, XQ Shen, H Nakanishi, SF Chichibu, M Shimizu, H Okumura. Electrical characterization at cubic AlN/GaN heterointerface grown by radio-frequency plasma-assisted molecular beam epitaxy. PHYSICA STATUS SOLIDI B-BASIC RESEARCH. 2001. 228. 2. 599-602
T Kitamura, SH Cho, Y Ishida, T Ide, XQ Shen, H Nakanishi, S Chichibu, H Okumura. Growth and characterization of cubic InGaN epilayers on 3C-SiC by RF MBE. JOURNAL OF CRYSTAL GROWTH. 2001. 227. 471-475
KITAMURA T, SUZUKI Y, ISHIDA Y, SHEN X Q, NAKANISHI H, CHICHIBU S F, SHIMIZU M, OKUMURA H. Optical Properties of Cubic InGaN/GaN Multibpe Quantum Wells on 3C-SiC Substrates by Radio-frequency Plasma-assisted Molecular Beam Epitaxy. PHYSICA STATUS SOLIDI B-BASIC RESEARCH. 2001. 188. 2. 705-709
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学歴 (1件):
- 2006 東京理科大学 理工学研究科 電気工学専攻
学位 (1件):
博士(工学)
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