研究者
J-GLOBAL ID:200901071621880821
更新日: 2022年09月16日
岩瀬 満雄
イワセ ミツオ | Iwase Mitsuo
所属機関・部署:
東海大学 工学部 材料科学科
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職名:
助教授
研究分野 (1件):
電気電子材料工学
研究キーワード (2件):
電子材料
, Semiconductor Devices
競争的資金等の研究課題 (4件):
ポーラスシリコンのESR法による評価
イオンビームアシスト蒸着法による薄膜形成技術
ESR study of porous silicon
Thin Film Deposition by Ion-Beam-Assisted Deposition
MISC (88件):
K Sato, T Izumi, M Iwase, Y Show, H Morisaki, T Yaguchi, T Kamino. Nucleation and growth of nanocrystalline silicon studied by TEM, XPS and ESR. APPLIED SURFACE SCIENCE. 2003. 216. 1-4. 376-381
CM-GFS源を用いたPtドープTio
2
薄膜の結晶構造変化. BEAMS 2001 粒子線技術シンポジウム学会. 2001. 85-88
Electron Enission from diomond films with Various Roughnesses at Sil Diamond. New Diamond and Frontier carbon Technology. 2001. 11.3.231
Effect of defects introduced by nitrogen doping on elecfron emission from diamond films. Materials chemistry and Physics. 2001
Formation of Carbon Nanotube by using RF Plasma CVD Eqipment from Acetylene and Hydrogen easese. Mate.Res.Soc.Symp.Proc. 2001. A13,12, 1-6
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受賞 (1件):
2003 - 学術写真優秀賞(日本セラミック協会
所属学会 (5件):
日本表面科学会
, 応用物理学会
, MATERIALS RESEARCH SOCIETY
, AMERICAN VACUUM SOCIETY
, 電気学会
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