内田儀一郎

ウチダギイチロウ | Uchida Giichiro

所属機関・部署：
職名：教授
ホームページURL (1件)： https://www.webofscience.com/wos/author/record/AAL-4248-2021

研究分野 (6件)：電気電子材料工学 , 電子デバイス、電子機器 , 薄膜、表面界面物性 , 複合材料、界面 , プラズマ応用科学 , プラズマ科学

研究キーワード (11件)： Liイオン電池 , 半導体ナノ材料 , プラズマ理工学 , 電解質ナノ粒子 , プラズマプロセス , プラズマ応用 , プラズマエレクトロニクス , 太陽電池 , 微粒子プラズマ , 異材接合 , 大気圧プラズマ

競争的資金等の研究課題 (13件)：

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論文 (191件)：

Daiki Fujikake, Tomoki Omae, Yumiko Ikebe, Giichiro Uchida. Amorphous Ge/LiAlGePO Composite Anodes with a Multistacking Structure Developed via Co-Sputtering for High-Capacity Li+-Ion Batteries. Advanced Materials Technologies. 2025. 10. 2401523
Shin Kajita, Giichiro Uchida, Hiromasa Tanaka, Kiho Tabata, Yuta Yamamoto, Noriyasu Ohno. Nanoporous Helium-Silicon Co-Deposition Thin Film via Plasma-Assisted Process for Lithium-Ion-Battery Anodes. Advanced Energy and Sustainability Research. 2025. 6. 2400300
Xiaozhng Chen, Yuta Nishina, Giichiro Uchida, Tomohiro Nozaki. Plasma-catalyzed sustainable nanostructured carbon synthesis: Advancing chemical-looping CO2 fixation. ACS Energy Letter. 2024. 9. 6072-6080
Kosuke Takenaka, Soutaro Nakamoto, Ryosuke Koyari, Akiya Jinda, Susumu Toko, Giichiro Uchida, Yuichi Setsuhara. Influence of pre-treatment with non-thermal atmospheric pressure plasma on bond strength of TP340 titanium-PEEK direct bonding. The International Journal of Advanced Manufacturing Technology. 2024. 134. 1637-1644
Tomoki Omae, Teruya Yamada, Daiki Fujikake, Takahiro Kozawa, Giichiro Uchida. Development of nanostructured Ge/C anodes with a multistacking layer fabricated via Ar high-pressure sputtering for high-capacity Li+-ion batteries. Applied Physics Express. 2024. 17. 026001

MISC (105件)：

竹中弘祐, 中本壮太郎, 小鑓亮輔, 都甲将, 内田儀一郎, 節原裕一. 大気圧非平衡プラズマジェットを用いた有機材料-金属異材接合技術の開発. 応用物理学会春季学術講演会講演予稿集(CD-ROM). 2023. 70th
竹中弘祐, 中本壮太郎, 小鑓亮輔, 都甲将, 内田儀一郎, 節原裕一. 大気圧非平衡RFプラズマジェット照射が金属-有機材料異材直接接合に与える影響. 応用物理学会秋季学術講演会講演予稿集(CD-ROM). 2023. 84th
竹中弘祐, 吉谷友希, 都甲将, 内田儀一郎, 江部明憲, 節原裕一. 高移動度IGZO薄膜トランジスタの大面積均一形成に向けたプラズマ支援反応性プロセスの開発. 応用物理学会春季学術講演会講演予稿集(CD-ROM). 2022. 69th
竹中弘祐, 内田儀一郎, 江部明憲, 節原裕一. プラズマ支援反応性プロセスによるアモルファスInGaZnO_x薄膜形成. 応用物理. 2021. 90. 1
竹中弘祐, 林祐仁, 小松響, 都甲将, 内田儀一郎, 江部明憲, 節原裕一. 反応性プラズマプロセスを用いた高移動度IGZO薄膜トランジスタの低温形成(IV). 応用物理学会秋季学術講演会講演予稿集(CD-ROM). 2021. 82nd

特許 (11件)：

学歴 (3件)：

学位 (1件)：

経歴 (10件)：

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委員歴 (11件)：

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受賞 (10件)：

2025/01 - 名古屋大学低温プラズマ科学研究センター第26回プラズマ材料科学賞(奨励部門賞) 大容量安定なLiイオン電池作製プラズマプロセスに関する研究
2024/09 - 大阪大学接合科学研究所接合科学共同利用・共同研究賞(令和6年度) 高密度RFプラズマジェットを用いた高強度金属/樹脂接合技術の開発
2024/03 - 応用物理学会プラズマエレクトロニクス分科会第22回プラズマエレクトロニクス賞
2021/04 - (一社)スマートプロセス学会 Best Review Paper賞
2021/03 - Best Presentation Award, 13th International Symposium on Advanced Plasma Science and its Applications for Nitrides and Nanomaterials

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所属学会 (4件)：

日本MRS , プラズマ・核融合学会 , 応用物理学会 , IEEE(米国電気電子学会)

※　J-GLOBALの研究者情報は、researchmapの登録情報に基づき表示しています。登録・更新については、こちらをご覧ください。

内田 儀一郎