研究者
J-GLOBAL ID:200901082320857605
更新日: 2022年06月27日
松波 紀明
マツナミ ノリアキ | Matsunami Noriaki
研究分野 (3件):
無機材料、物性
, 水工学
, 半導体、光物性、原子物理
研究キーワード (6件):
イオンビーム分析
, プラズマ・固体相互作用
, イオンビーム物質改質
, Ion beam analysis
, Plasma-solid interaction
, Ion Beam Material Modification
競争的資金等の研究課題 (8件):
2008 - 2008 プラズマ・固体相互作用
2008 - 2008 Plasma-solid interaction
2000 - イオン照射に伴う電子励起効果
2000 - イオン照射による固体物性改質
2000 - Electronic excitation effects by ion beam irradiation
2000 - Material modification by ion beam
イオン照射効果
Ion Irradiation Effects
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MISC (116件):
N. Matsunami, H. Kakiuchida, M. Tazawa, M. Sataka, H. Sugai, S. Okayasu. Electronic and atomic structure modifications of copper nitride films by ion impact and phase separation. NUCLEAR INSTRUMENTS & METHODS IN PHYSICS RESEARCH SECTION B-BEAM INTERACTIONS WITH MATERIALS AND ATOMS. 2009. 267. 16. 2653-2656
N. Matsunami, H. Kakiuchida, M. Tazawa, M. Sataka, H. Sugai, S. Okayasu. Electronic and atomic structure modifications of copper nitride films by ion impact and phase separation. NUCLEAR INSTRUMENTS & METHODS IN PHYSICS RESEARCH SECTION B-BEAM INTERACTIONS WITH MATERIALS AND ATOMS. 2009. 267. 16. 2653-2656
N. Matsunami, O. Fukuoka, M. Tazawa, H. Kakiuchida, M. Sataka. Electronic structure modifications of cuprous-oxide films by ions. SURFACE & COATINGS TECHNOLOGY. 2009. 203. 17-18. 2642-2645
N. Matsunami, N. Ohno, M. Tokitani. Deuterium retention in tungsten oxide under low energy D-2(+) plasma exposure. JOURNAL OF NUCLEAR MATERIALS. 2009. 390-91. 693-695
N. Matsunami, O. Fukuoka, M. Tazawa, H. Kakiuchida, M. Sataka. Electronic structure modifications of cuprous-oxide films by ions. SURFACE & COATINGS TECHNOLOGY. 2009. 203. 17-18. 2642-2645
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Works (4件):
高速重元素イオンによる物質改質・物性制御(産学連携重点研究)
2007 - 2009
核融合炉壁材酸化層中の重水素リテンション
2008 - 2008
プラズマ・材料相互作用に関する調査
2008 - 2008
窒化セラミックス薄膜作成及びイオンビーム物性改質
2006 - 2008
学位 (1件):
工学博士
経歴 (1件):
名古屋大学 エコトピア科学研究所 エネルギー科学研究部門 エコトピア科学研究所 エネルギー科学研究部門 准教授
所属学会 (2件):
物理学会
, 原子力学会
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