研究者
J-GLOBAL ID:200901083638947367
更新日: 2024年08月08日
澤 彰仁
サワ アキヒト | Sawa Akihito
この研究者にコンタクトする
直接研究者へメールで問い合わせることができます。
所属機関・部署:
国立研究開発法人産業技術総合研究所 電子光基礎技術研究部門
国立研究開発法人産業技術総合研究所 電子光基礎技術研究部門 について
「国立研究開発法人産業技術総合研究所 電子光基礎技術研究部門」ですべてを検索
ホームページURL (1件):
http://www.aist.go.jp/RESEARCHERDB/cgi-bin/worker_detail.cgi?call=namae&rw_id=A25475677
研究分野 (2件):
電気電子材料工学
, 電力工学
競争的資金等の研究課題 (1件):
強相関電子技術に関する研究
論文 (1件):
S. Kosaka, H. Obara, A. Sawa. Magnetization properties and vortex states of YBa2Cu3Oy/PrBa2Cu3Oy multilayered films. Denshi Gijutsu Sogo Kenkyusho Iho/Bulletin of the Electrotechnical Laboratory. 1994. 58. 6. 164-165
MISC (34件):
A. Sawa, T. Fujii, M. Kawasaki, Y. Tokura. Interface resistance switching at a few nanometer thick perovskite manganite active layers. APPLIED PHYSICS LETTERS. 2006. 88. 23. 232112-1-232112-3
Y. Tokunaga, Y. Kaneko, J. P. He, T. Arima, A. Sawa, T. Fujii, M. Kawasaki, Y. Tokura. Colossal electroresistance effect at metal electrode/La1-xSr1+xMnO4 interfaces. APPLIED PHYSICS LETTERS. 2006. 88. 22. 223507-
Y. Tokunaga, Y. Kaneko, J. P. He, T. Arima, A. Sawa, T. Fujii, M. Kawasaki, Y. Tokura. Colossal electroresistance effect at metal electrode/La1-xSr1+xMnO4 interfaces. APPLIED PHYSICS LETTERS. 2006. 88. 22. 223507-1-223507-3
遷移金属酸化物による抵抗変化型不揮発性メモリー(ReRAM). 応用物理. 2006
澤 彰仁, 藤井 健志, 川崎 雅司, 十倉 好紀. ペロブスカイト型酸化物ヘテロ接合の抵抗スイッチング・メモリ. 電子情報通信学会技術研究報告. SDM, シリコン材料・デバイス. 2005. 105. 155. 23-26
もっと見る
※ J-GLOBALの研究者情報は、
researchmap
の登録情報に基づき表示しています。 登録・更新については、
こちら
をご覧ください。
前のページに戻る
TOP
BOTTOM