高感度,耐ドライエッチ性の塩基現像レジストの設計のための新しいポリマ溶解抑制剤

ITO H; FLORES E; RENALDO A F

文献

J-GLOBAL ID：200902000584269822 整理番号：88A0592329

高感度,耐ドライエッチ性の塩基現像レジストの設計のための新しいポリマ溶解抑制剤

Novel polymeric dissolution inhibitor for the design of sensitive, dry etch resistant, base-developable resist.

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巻： 135 号： 9 ページ： 2328-2333 発行年： 1988年09月
JST資料番号： C0285A ISSN： 1945-7111 CODEN： JESOAN 資料種別：逐次刊行物 (A)
記事区分：原著論文発行国：アメリカ合衆国 (USA) 言語：英語 (EN)

ポリフタルアルデヒド(PPA)は塩基水溶液中でノボラック樹脂...

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固体デバイス材料

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