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J-GLOBAL ID：200902000738064471   整理番号：88A0459843

シリコンウエハにおけるppb領域以下の表面汚染の検出

Surface contamination detection below the ppb range on silicon wafers.
著者 (3件)：
CORRADI A

CORRADI A について

(Dynamit Nobel Silicon, Novara, ITA)

Dynamit Nobel Silicon, Novara, ITA について

, 
DOMENICI M

DOMENICI M について

(Dynamit Nobel Silicon, Novara, ITA)

Dynamit Nobel Silicon, Novara, ITA について

, 
GUAGLIO A

GUAGLIO A について

(Dynamit Nobel Silicon, Novara, ITA)

Dynamit Nobel Silicon, Novara, ITA について


資料名：
Journal of Crystal Growth  (Journal of Crystal Growth)

Journal of Crystal Growth について


巻： 89  号： 1  ページ： 39-42  発行年： 1988年06月01日 
JST資料番号： B0942A  ISSN： 0022-0248  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)
抄録/ポイント：
抄録/ポイント
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各プロセス段階におけるシリコンウエハの微量不純物の検出に原子...
シソーラス用語：
シソーラス用語/準シソーラス用語
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ケイ素

ケイ素 について

,...
準シソーラス用語：
シソーラス用語/準シソーラス用語
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ラップ仕上

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分類 (2件)：
分類
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分光分析 
(CC03012W)

分光分析 について

,  固体デバイス材料 
(NC03020K)

固体デバイス材料 について

タイトルに関連する用語 (2件)：
タイトルに関連する用語
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シリコンウエハ

シリコンウエハ について

, 
表面汚染

表面汚染 について


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