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J-GLOBAL ID：200902001187005262   整理番号：90A0193558

平滑表面を持つポリシリコーンフィルムからのミクロ機械デバイスの製造

Fabrication of micromechanical devices from polysilicon films with smooth surfaces.

著者 (5件)： GUCKEL H (Univ. Wisconsin, WI, USA) ,  SNIEGOWSKI J J (Univ. Wisconsin, WI, USA) ,  CHRISTENSON T R (Univ. Wisconsin, WI, USA) ,  MOHNEY S (Univ. Wisconsin, WI, USA) ,  KELLY T F (Univ. Wisconsin, WI, USA)
資料名： Sensors and Actuators (Lausanne)  (Sensors and Actuators (Lausanne))
巻： 20  号： 1/2  ページ： 117-122  発行年： 1989年11月15日 
JST資料番号： B0345B  ISSN： 0250-6874  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： スイス (CHE)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 軸受のようなミクロ機械デバイスは円滑な表面が必要である。8Å...

シソーラス用語： シリコーン樹脂 ,...

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分類 (2件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V) ,  その他の成形  (YH04090Q)

タイトルに関連する用語 (2件)： 平滑表面 ,  機械デバイス