反応性dcプラズマトロンスパッタリングで作製したTiO<sub>2</sub>の光学的および構造的特性に対する蒸着条件の影響

文献

J-GLOBAL ID：200902002868483126 整理番号：82A0132577

反応性dcプラズマトロンスパッタリングで作製したTiO₂の光学的および構造的特性に対する蒸着条件の影響

Influence of deposition parameters on the optical and structural properties of TiO₂ films produced by reactive d.c. plasmatron sputtering.

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資料名：
巻： 83 号： 2 ページ： 239-245 発行年： 1981年09月11日
JST資料番号： B0899A ISSN： 0040-6090 資料種別：逐次刊行物 (A)
記事区分：原著論文発行国：オランダ (NLD) 言語：英語 (EN)

酸素の分圧と基板温度が,TiO₂膜の相...

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酸化物薄膜 , 光物性一般

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